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              發布時間:2021-08-04 17:55  

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              鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗,這種清洗要求很高,達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗液,并采用超聲波加強清洗效果,當鏡片清洗完后,放進真空艙內,在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。清洗是在真空艙內,在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。清洗是在真空艙內鍍前進行的,放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表面(例如用亞離子),完成此道清洗工序后即進行減反射膜的鍍膜。




              原來磁場強弱雖不好進行控制,但同時工件也在同時運轉,且是靶材原子多次沉積此案結束鍍膜工序,在一段時間內雖然某些部位厚,某些部位薄,但另一個時間內,磁場強的作用下在原來薄的部位沉積上厚的,在厚的部位沉積上薄的,如此多次,整個膜層成膜后,均勻性還是比較不錯的。

              亞氣的送氣均勻性也會對膜層均勻性產生影響,其原理實際上和真空度差不多,因為亞氣的進入,真空室內壓強會產生變化,均勻的壓強大小可以控制成磁控濺射真空鍍膜機膜厚度的均勻性。


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              光學鍍膜基合金駁回的是化學藥品作為恢復劑,恢復劑在有自催化活性的催化內中被氧化而放出電子,這種電子無法在電極內中被加快,


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