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真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空濺射鍍膜根據濺射現象以上，濺射是用荷能離子轟擊固態表面，造成固態表面原子逸出的狀況。濺射是出射粒子將動能傳送給固態表面，固態表面原子因消化吸收動能而揮發出去的全過程。

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，包括真空離子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、分子束外延鍍膜機和激光濺射沉積鍍膜機等很多種。主要是分成蒸發和濺射兩種。未來真空鍍膜設備行業等制造業將以信息化融合為，依靠技術進步，更加注重技術能力積累，制造偏向服務型，向世界真空鍍膜設備行業等制造業價值鏈挺進。在真空鍍膜設備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。基片與靶材同在真空腔中。

真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產品品質。加工件進入鍍膜室前一定要做到認真的鍍前清潔處理。

真空鍍膜設備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術。

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。平常我們還應當注意以下幾點：

1、真空鍍膜設備使用一段時間后，必須要對設備進行清潔維護；

2、保證設施設備及操作環境清潔。如材料、樣品放置地環境要求，環境溫度濕度要求等；

3、降低真空鍍膜設備室內空氣流動性低、盡量減小室外灰塵侵入。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術。普通玻璃能透過絕大部分太陽光輻射能量，這對采光和吸收太陽光線的能量十分有利。能使材料具有許多新的、良好的物理和化學性能。

真空鍍膜設備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類。