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              汕頭高速旋轉刀具研磨機擇優推薦

              發布時間:2020-08-14 15:32  

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              高速旋轉金剛石研磨機研磨盤轉速對材料去除速率和表面粗糙度的影響

              通常情況下,增大高速旋轉金剛石研磨機研磨盤轉速可以提高研磨液產品研磨加工效率,但當速度過高時,會產生研磨運動平穩性降低、研磨盤磨損加快等具體問題,從而降低藍寶石襯底表面加工質量。高速旋轉金剛石研磨機研磨盤轉速對材料去除速率和表面粗糙度值Ra的影響。

              從圖5可以看出:當高速旋轉金剛石研磨機研磨盤轉速從40r/min增大至97r/min時,去除速率從0.66μm/min提高至1.16μm/min,去除速率提高幅度達75%。

              當研磨盤轉速從40r/min提高至80r/min時,表面粗糙度值僅從15nm略微增至17nm;當轉速進一步增大至97r/min時,由于盤面的穩定性受到影響,因此,粗糙度增大至18nm。

              隨著高速旋轉金剛石研磨機研磨壓力增大,金剛石磨料在工件表面產生的切削深度值越大,因此工件表面粗糙度值變大。當壓力從6.89kPa增大至20.65kPa時,

              表面粗糙度值Ra從14nm提高至18nm,繼續增大壓力至27.58kPa,由于金剛石磨料壓人工件表面的深度值已達到zui大值,因此其表面粗糙度值不變。在批量研磨過程中,當高速旋轉金剛石研磨機研磨壓力超過27.58kPa后,少zui基片出現微裂紋現象。因此,綜合材料去除速率和表面粗糙度值Ra兩方面的考慮,優選研磨壓力為20.68kPa。




              無損耗氣浮鉆石拋光機的三大保養秘訣

              夏季是多雨季節,無損耗氣浮鉆石拋光機應該避免雨淋和暴曬,這樣可以增加外觀壽命,長期雨淋,雨水浸入設備接觸部位,會誘發銹漬,使漆面脫落,應該注意日常防范,如發現有銹漬及時消除。

              如果在高溫下暴曬,由于無損耗氣浮鉆石拋光機機體都是鋼材設計,吸熱強,短期使溫度增加到60度以上,是設備軸承部位高溫,引起潤滑脂過熱而融化,使轉動部位缺潤滑油,軸承減短使用壽命。高速旋轉刀具研磨機

              為了無損耗氣浮鉆石拋光機機器更好的工作,日常維護不可無視。考慮到以上問題,所以將在機器下平臺時,進行烤漆處理,使漆面更加經久耐用。盡管質量再好,日常保養是不可缺少的。掌握無損耗氣浮鉆石拋光機的保養,來延長機械的使用年限,帶來更大的利益,有效減少投資是非常重要的

              無損耗氣浮鉆石拋光機屬于拋光機的一種,今天是主要講無損耗氣浮鉆石拋光機拋光機的保養方面,以便讓大家能夠更深入的認識,不足之處,請大家諒解。

              1、無損耗氣浮鉆石拋光機 拋光機的外表及電機部位,要定期清理上面的粉末,并檢查緊固手柄、進給手輪等部位。

              2、 無損耗氣浮鉆石拋光機整機保養方面:主要有檢查潤滑部位的潤滑狀況,導軌要保持清潔,不要有拋光粉末,松緊要合適,以免出現磨損。軸承方面如果出現嚴重磨損應及時換新。

              3、 電器方面:無損耗氣浮鉆石拋光機電機要定期清掃上面的粉塵,否則會影響電機的散熱,各電器裝置要緊固可靠,各按鈕要保持按動靈活。高速旋轉刀具研磨機




              PCB氣浮鉆石研磨機

              PCB氣浮鉆石研磨機在對于PCB的分析過程中,切片分析是一項很重要的手段,通用的切片制作方法一般參考IPC-TM-650 2.1.1節的要求。通過切片分析可以得到反映PCB(通孔、鍍層等)質量和PCBA焊點(IMC、空洞等)質量的微觀結構的豐富信息,為下一步的質量改進提供很好的依據。

              PCB氣浮鉆石研磨機切片按研磨方向分為垂直切片和水平切片兩種。垂直切片即沿垂直于板面的方向切開,觀察剖面狀況,通常用來觀察孔鍍銅后的品質、疊層結構及內部結合面的狀況。垂直切片是切片分析中zui常用的方式。PCB氣浮鉆石研磨機水平切片是順著板子的疊合方向一層層向下研磨,用來觀察每一層面的狀況,通常用來輔助垂直切片進行品質異常的分析判定,如內短或內開異常等。

              PCB氣浮鉆石研磨機切片制作一般包括取樣、鑲嵌、切片、拋磨、腐蝕、觀察等一系列手段和步驟以獲得光潔的PCB橫截面結構。然后通過如金相顯微鏡和掃描電鏡等對切片進行微觀細節分析,只有對切片做出正確的判讀,才能做出正確的分析從而給出有效的解決措施。因此PCB氣浮鉆石研磨機切片質量尤為重要,質量差的切片會給失效問題分析帶來嚴重的誤導和誤判。金相顯微鏡作為zui主要的分析設備,其放大倍率從50到1000倍不等,測量精度偏差在1μm以內。





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