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發布時間：2020-12-26 14:51
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常見真空腔體技術性能
材質：不銹鋼、鋁合金等
腔體適用溫度范圍：-190℃~ 1500℃(水冷)
密封方式：氟膠O型圈或金屬無氧銅圈
出廠檢測事項：
1、真空漏率檢測1.3*10-10mbar*l/s
2、水冷水壓檢測：8公斤24小時無泄漏檢測.
內外表面處理：拉絲拋光處理、噴砂電解處理、酸洗處理、電解拋光處理和鏡面拋光處理等.
真空腔體真空概念
真空是物理學里面的一個概念,反映的是空無一物的狀態.在二十世紀的時候狄拉克提出了量子真空的概念,即真空并不是無物而是有實物粒子和虛粒子轉化的,但整體對外是不顯示物理屬性的宏觀總體.真空就像是一個能量海,不斷振蕩并且充滿著巨大能量.
真空的屬性確實是需要用空間來描述,但只是種數學表示,是為了方便研究才引入的參量,并不是說真空的性質取決于空間.
真空技術是建立在低于大氣壓力的環境下,以及在此環境中進行工藝制作、科學試驗和物理測量等所需要的技術.
用現代抽氣方法獲得的很低壓力,每立方厘米的空間里仍然會有數百個分子存在.
氣體稀薄程度是對真空的一種客觀量度 ,直接的物理量度是單位體積中的氣體分子數.氣體分子密度越小,氣體壓力越低,真空就越高.真空常用帕斯卡或托爾做為壓力的單位.
真空腔體制造技術
提供專用設備腔的定制服務，腔體的外形和開口可以根據用戶要求進行設計。
表面分析腔有通用腔體，用戶也可以在通用腔體的基礎上進行自定義設計。
手套箱和焊接箱專用于熔煉或焊接鈦、鋅等對易在大氣中氧化的材料。
真空密封頸是基板和鐘形罩之間的過渡組件，它可以提供額外的高度和更多的自由端口。
裝載鎖定室是建在主腔體上的小腔體，可在不破壞主腔體真空度的條件下，將樣本、晶片或其他組件從外部大氣環境移動到內部高真空環境中。
真空腔體可以按照真空度進行分類，包括粗或低真空度(< 760, > 1 torr)，中真空度(< 1, >10-3 torr)，高真空度(< 10-3, >10-8 torr)，超高真空度(< 10-8 torr)，以及非真空的高壓力 (> 760 torr)。真空設備常用于脫氣，焊接，制備薄膜涂層，生產半導體/晶圓、光學器件以及特殊材料等。真空腔的寬度和外徑等常規尺寸是非常重要的參數。標準鐘形罩或柱形腔體的可選直徑是12英寸，14英寸，18英寸和24英寸。
真空腔體或者真空組件的可選項包括法蘭、裝配形式、表面拋光或電拋光、開口或傳導口，加熱器和冷卻方式等。
Ferrotec在真空中制造中的解決方案
使用磁流體密封件作為在旋轉過程中真空解決方案。磁流體密封件可以隔絕大氣和污染物。
制備的石英用來制造視口及配件等組件，石英在許多其他加工工藝中也有使用。
真空鍍膜可選Ferrotec的PVD電子束蒸發系統。
如需了解更多真空環境下的制造信息，請參考真空工業界的資料。
復雜的真空腔體通常需要定制，即針對應用終端進行專門的設計和制作。真空腔體真空腔體是內部為真空狀態的容器,很多先進的技術工藝均需要在真空或惰性氣體保護條件下完成,真空腔體是這些工藝過程中重要的基礎設備。某些常見的真空腔體已經過預先設計，如手套箱、焊接室、脫氣箱、表面分析真空腔等。例如脫氣箱和手套箱一般采用低真空環境，可用于焊接，或用于塑料制品、復合材料層壓板、封裝組件等的脫氣。
