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發(fā)布時間:2021-08-06 18:43  
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國外于60年前開始生產(chǎn)稀土拋光粉,二十世紀90年代已形成各種標(biāo)準(zhǔn)化、系列化的產(chǎn)品達30多種規(guī)格牌號。
目前,國外的稀土拋光粉生產(chǎn)廠家主要有15家(年生產(chǎn)能力為200噸以上者)。其中,法國羅地亞公司年生產(chǎn)能力為2200多噸。是目前大的稀土拋光粉生產(chǎn)廠家。美國的拋光粉年產(chǎn)量能力達1500噸以上。
。日本生產(chǎn)稀土拋光粉的原料采用氟碳礦、粗氯化和氯化稀土三種,工藝上各不相同。日本稀土拋光粉的生產(chǎn)在燒結(jié)設(shè)備和技術(shù)上均具特色。1968年,我國在上海躍龍化工廠研制成功稀土拋光粉。
此外,稀土拋光粉也可以根據(jù)其添加劑的不同種類來劃分,稀土拋光粉生產(chǎn)技術(shù)屬于微粉工程技術(shù),稀土拋光粉屬于超細粉體,國際上一般將超細粉體分3種:納米級(1nm~100nm);亞微米級(100nm~1μm);微米級(1μm~100μm),據(jù)此分類方法,稀土拋光粉可以分為:納米級稀土拋光粉、亞微米級稀土拋光粉及微米級稀土拋光粉3類,通常我們使用的稀土拋光粉一般為微米級,其粒度分布在1μm~10μm之間,稀土拋光粉根據(jù)其物理化學(xué)性質(zhì)一般使用在玻璃拋光的后工序,進行精磨
因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的拋光粉(包括稀土拋光粉)大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級稀土拋光粉,由于在液晶顯示器與電腦光盤領(lǐng)域的應(yīng)用逐漸受到重視,產(chǎn)量逐年提高。納米級稀土拋光粉目前也已經(jīng)問世,隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,其應(yīng)用前景不可預(yù)測,但目前其市場份額還很小,屬于研發(fā)階段。

原料→干法細磨→配料→混粉→焙燒→磨細篩分→低級系稀土拋光粉產(chǎn)品。主要設(shè)備:球磨機,混料機,焙燒爐,篩分機等。主要指標(biāo):產(chǎn)品中w(REO)≥95%,w(CeO2)≥50%;稀土回收率≥95%;產(chǎn)品粒度為1.5μm~2.5μm.該產(chǎn)品適合于眼鏡片、電視機顯象管的高速拋光之用。目前,國內(nèi)生產(chǎn)的低級系稀土拋光粉的量,約占總產(chǎn)量的90%以上。
