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化學鎳MID沉銅及后續的沉鎳、沉金化學鍍產品成功地廣泛應用于手機外殼、電子、轎車電子線路的金屬化中。制程安穩性高，鍍液壽數長，簡略管控，已被國內外出名廠商認證經過指l定運用。

特色：

安穩，壽數耐久的預鍍銅。

壽數逾二周之全量產出產(24小時滿負荷出產)，電鍍時間短，約15分鐘，可縮短周期時間，添加產出，鍍液活性度安穩 ，管控簡略，降低成本。

快速，鍍層分布性佳，應力低的厚銅

2.5至4小時內，厚度可以抵達16-18微米(μm)，槽液活性度安穩，壽數長簡略管控。

每出產2周后，僅需求新配25%槽體積的鍍液。

適用于雙色注塑，單色注塑，和LDS (激光)雕刻等工件。為一全l方位研制、適用性強之制程。

沉積速率高，工件的邊沿棱角掩蓋才能好。不會跳鍍，也不會溢鍍，良率因此大大提高， 于不同槽液活性度下仍能適化操作。

化學鎳廢水構成

化學鎳廢水主要來源是化學鎳電鍍液的清洗水，化學鎳電鍍液中存在絡合劑以及次磷酸鈉，因此化學鎳廢水的主要構成是次磷酸和絡合鎳，對應電鍍廢水處理指標中的鎳含量以及磷含量。

對于絡合鎳，由于絡合劑與鎳離子能夠穩定結合，導致在含鎳廢水中加堿沉淀不下去，傳統的液體重捕劑或者的螯合能力有限，也很難把鎳離子從絡合劑那里奪走。

對于次磷酸鈉，不同于一般的正磷，次磷酸鈉無法通過石灰進行沉淀處理，而通過氧化進行處理，也無法把次磷酸根氧化為正磷酸根，因此磷也無法去除。

化學鍍鎳廢水處理注意事項

使用次亞磷去除劑P3和除鎳劑M2進行處理化學鎳廢水：

1、反應的pH至為關鍵，在使用次亞磷去除劑P3處理，需要控制pH

2、可以采取先除磷，再除鎳的步驟處理化學鎳廢水

3、使用次亞磷去除劑P3和除鎳劑M2進行處理化學鎳廢水，可以把磷處理至0.5mg/L以下，鎳處理至0.1mg/L以下。

4、用該方法處理化學鎳廢水，同樣可以用該方法處理化學鍍銅廢水

主要應用領域如下：

1，用于電鍍工業，是電鍍鎳和化學鎳的主要鎳鹽，也是金屬鎳離子的來源，能在電鍍過程中離解鎳離子和硫酸根離子。

2，硬化油生產中是油脂加氫的催化劑。

3，工業用于生產維生素C氧化反應的催化劑。

4，無Chemicalbook機工業中用作生產其它鎳鹽如：鹽、氧化鎳、氫氧化鎳、碳酸鎳等。

5，印染工業中用于制酞菁艷藍絡合劑和還原染料的媒染劑。

上述多個行業的應用中，屬電鍍、化學鍍及充電電池領域用量，其中電池級用量占總需求約為50%。