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              倫教塑料反光杯鍍膜供應在線咨詢

              發布時間:2020-08-14 06:41  

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              鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響:

              占空比:占空比是指脈沖偏壓的通斷時間比,占空比越大,同一個周期時間內偏壓輸出時間越長,增大占空比可以提高離子轟擊的能量,有利于提高膜基結合力和膜層致密性和膜層的硬度,但會提高工件的溫升;減小占空比有利于抑制打火損傷和降低工件表面的溫度、輝光放電清洗和離子轟擊的效果。真空鍍膜之磁控濺射鍍膜:磁控濺射的基本原理就是以磁場改變電子運動方向,束縛和延長電子的運動軌跡,從而提高了電子對工作氣體的電離幾率和有效地利用了電子的能量。

              真空度:真空度是指處于真空狀態下氣體的稀薄程度,用壓強表示,壓強越低,其稀薄程度越大,真空度越高。鍍膜過程中,真空度主要通過控制ya氣流量來改變。


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              真空鍍膜技術優點表現在哪里?真空鍍膜技術在塑料制品上的應用廣泛,真空鍍膜機廠表示,塑料具有易成型,成本低,質量輕,不腐蝕等特點,塑料制品應用廣泛,但因其缺點制約了擴大應用。通過真空鍍膜技術的應用,使塑料表面金屬化,將有機材料和無機材料結合起來,大大提高了它的物理、化學性能。輝光放電是在10-2Pa-10Pa真空度范圍內,在兩個電極之間加上高壓時產生的放電現象。

              濺射鍍膜原理:

              濺射鍍膜是利用濺射現象來達到制取各種薄膜的目的,即在真空室中利用荷能離子轟擊靶表面,使被轟擊出的粒子在基底上沉積的技術。輝光放電是在10-2Pa-10Pa真空度范圍內,在兩個電極之間加上高壓時產生的放電現象。鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響:本底真空度:本底真空度越高爐內雜氣量(包括水氣)越少,這保證鍍膜時反應氣體的純度,從而保證膜層顏色的純正和光澤鮮亮。它是離子濺射鍍膜的基礎,即離子濺射鍍膜中的入射離子一般利用氣體放電法得到。


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