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鍍硬鉻工藝分類：

鍍硬鉻(耐磨鉻) 鍍層具有極高的硬度和耐磨性，可延長工件使用壽命，如切削及拉拔工具，各種材料的壓制模及鑄模、軸承、軸、量規、齒輪等，還可用來修復被磨損零件的尺寸公差。

鍍硬鉻的厚度一般為5～50μm，也可根據需要而定，有的高達200～800μm。鋼鐵零件鍍硬鉻不需要中間鍍層，如對耐蝕性有特殊要求，也可采用不同的中間鍍層。

鍍乳白鉻鍍鉻層呈乳白色，光澤度低、韌性好、孔隙低、色澤柔和，硬度比硬鉻和裝飾鉻低，但耐蝕性高，所以常用于量具和儀器面板。

為提高其硬度，在乳白色鍍層表面可再鍍覆一層硬鉻，即所謂雙層鉻鍍層，兼有乳白鍍鉻層和硬鉻鍍層的特點，多用于鍍覆既要求耐磨又要求耐腐蝕的零件。

鍍硬鉻廠家介紹鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的來源。實踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內變化。例如，當溫度在45～50℃，Dk=10A／dm2時，鉻酐濃度在50～500g／L范圍內變化，甚至高達800g／L，均可獲得光亮鍍鉻層。一般生產中采用的鉻酐濃度為150～400g／L之間。鉻酐的濃度對鍍液的電導率起決定性作用，鍍液溫度升高，電導率隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動。因此，單就電導率而言，宜采用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。但采用高濃度鉻酸電解液時，由于隨工件帶出損失嚴重，不僅造成材料的浪費，更主要的是會造成嚴重的環境污染。而低濃度鍍液對雜質金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。鉻酐濃度過高或過低都將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。鉻酐濃度低的鍍液陰極電流效率較高，多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關，蕞主要的取決于鉻酐和硫酸的比值。一般控制Cr03：SO42-=(80～100)：1，蕞佳值為100：1。當SO42-含量過高時，對膠體膜的溶解作用強，基體露出的面積大，真實電流密度小，陰極極化小，得到的鍍層不均勻、發花，特別是工件凹處還可能露出基體金屬。當SO42-含量過低時，陰極表面只有很少部位的膜被溶解，即成膜的速度大于溶解的速度，鉻的析出受阻或在局部地區放電長大，所以，鍍層發灰粗糙，光澤性差。

電鍍硬鉻技術除氫處理，氫脆是一種由于氫滲入金屬內部導致損傷，從而使金屬材料在低于材料屈服強度的靜應力作用下發生的延遲斷裂現象。 氫脆在工程上是一種比較普遍的現象，尤其在電鍍加工生產過程中極易導致金屬材料產生氫脆，電鍍過程中的氫脆主要發生在酸洗、電鍍等工序中。  

因此許多制件在進行電鍍加工后，都會進行去氫處理，避免氫脆而導致的危害。

鍍硬鉻廠家介紹420nm窄帶濾光片主要作用是使特定波長的光通過，鍍硬膜,使用壽命長,波長定位精離子蒸鍍,溫度漂移小，穿透率高,截止深度高讓其他波長的光的反射(或衰減)光學元件。半波寬度通常控制在20nm或者更小，可紫外線，可見光，近紅外線波長，遠紅外波段.我公司的窄帶濾光片采用多層硬膜經離子輔助沉積納米材料高真空蒸發而成，膜層致密性好，成像清晰度高。