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電鍍電鍍過程是將磁體接到直流電源陰極，浸入含有鍍層材料陽離子的溶液中，陽離子在電場作用下會遷移到陰極并轉化成金屬原子結晶到磁體表面。燒結釹鐵硼常用的有鍍鋅和鍍鎳，以及鎳銅鎳復合鍍。鋅在干燥空氣中比較穩定，在潮濕空氣或含氧的水中則會生成碳酸鋅薄膜，可延緩鋅的腐蝕速度，但在酸堿鹽溶液、海洋性大氣、高溫高濕空氣中耐腐蝕性較差，鈍化處理可顯著提升鋅鍍層的耐蝕性。鎳容易與空氣中的氧形成極薄的鈍化膜，在常溫下對大氣、堿和一些酸有很好的耐腐蝕性，因此鍍鎳成為燒結釹鐵硼zui普遍的電鍍方式。

電弧離子鍍陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積，該技術材料的離化率更高，薄膜性能更加優異。過濾陰極弧過濾陰極電弧(FCA)配有gao效的電磁過濾系統，可將弧源產生的等離子體中的宏觀大顆粒過濾掉，因此制備的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與機體的結合力很強。離子束離子束加工是在真空條件下，先由電子槍產生電子束，再引入已抽成真空且充滿惰性氣體之電離室中，使低壓惰性氣體離子化。由負極引出陽離子又經加速、集束等步驟，獲得具有一定速度的離子投射到材料表面，產生濺射效應和注入效應。

PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類：PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。PVD鍍膜膜層的厚度：PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm～1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，鍍后不須再加工。

由于該工藝過程具有炸性質，并可形成液化金屬的液滴，因此可能導致涂層表面粗糙。引入反應氣體從而形成化合物2)濺射（電離度低）：濺射是用高能粒子轟擊靶材而使原子從固體靶材上彈出的過程。在薄膜涂層中，這是通過加速朝向固體靶材的ya離子，使其在靶材上擊出金屬原子并聚集在工件上來實現的。通過在真空腔室中引入氣體而形成如金屬氮化物等化合物。國內外技術對比分析：①整體差距：調查資料顯示：目前，國外PVD涂層行業的生產設備一般技術力量雄厚，工藝裝備精良，檢測手段齊全，并擁有全國先進的大噸位及配套生產設備，具有較強的生產能力。