cvd化學氣相沉積的行業須知

真空鍍中對底涂層的要求：

①對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結合力，熱膨脹系數相差小，不起反應，流平性能好。

②具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應力小、耐熱性能好。

③成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。

④與面涂層有良好的相溶性。由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。

⑤施涂性能良好。流平性能良好，有適當的黏度、固化時間短。

納米鍍膜

　納米鍍膜機的工藝流程，塑料薄膜的鍍鋁工藝一般采用直鍍法，即將鋁層直接鍍在基材薄膜表面。BOPET、BOPA薄膜基材鍍鋁前不需進行表面處理，可直接進行蒸鍍。而BOPP、PE等非極性塑料薄膜，在蒸鍍前需對薄膜表面進行電暈處理或涂布黏合層

轉移法。是借助載體膜(真空鍍鋁膜)將金屬鋁層轉移到基材的表面而形成鍍鋁薄膜。轉移法是在直接蒸鍍法的基礎上發展起來的新工藝，它克服了直接蒸鍍法對基材要求的局限性

鍍膜制造需要部分耗材1.SIO2顆粒或環狀(∮300*∮230*T7.5mm,)需要根據機臺配置選用。2.TIO2顆粒。3.晶振片Filtex 6MHZ或INFICON6MHZ。如果紙張的表面較粗糙，要采用直接蒸鍍法，在鍍鋁前需先進行表面涂布。4.監控片BK7 Φ142*80*1.8mm,需要根據機臺配置選用。5.銅坩堝,需要根據機臺配置選用。6.鋁箔厚度0.05mm*寬610mm。7.電子槍燈絲,需要根據機臺配置選用。8.離子源,需要根據機臺配置選用耗材。