天津破損降級組件來電咨詢【振鑫焱光伏科技】

電池片的檢驗

振鑫焱光伏科技有限公司常年采購：高價回收硅片，電池片，初級多晶硅，銀漿布，單晶硅，多晶硅，太陽能電池，光伏組件，太陽能電池板，客戶撤退，降級，庫存，El，不良測試，二手，舊，工程，拆卸，路燈，拆解電站，拆卸，膠合板，層壓板，無邊界晶體硅，多晶硅，單晶硅，實驗板，債務償還，返工，光伏模塊回收等

1、   色差片是怎樣產生的？

這與化學氣相沉淀時間有關，時間長會發白，時間短會發黃

2、   光面片是怎樣產生的？

首先是因為片子本身就是光面片，其次就是在腐蝕中加入 NaOH 量過多

3、   光外形片是怎樣產生的？

單測單包（前道絲印也要單獨挑出，選擇合適的網板印制）

4、   絨面色斑是怎么來的？

一方面是硅片的表面存在一定的臟污在制絨時沒有清洗干凈，另一方面是我們的工藝衛生到位，手指印、吸盤印、化學品沒有處理干凈

5、   對未燒透的片子怎么處理？

硅片與硅片之間存在一定的厚度，如果在做薄片中間夾著厚片就會燒不透，燒結的溫度低了

電池片的制作工藝

振鑫焱光伏科技有限公司常年采購：高價回收硅片，電池片，初級多晶硅，銀漿布，單晶硅，多晶硅，太陽能電池，光伏組件，太陽能電池板，客戶撤退，降級，庫存，El，不良測試，二手，舊，工程，拆卸，路燈，拆解電站，拆卸，膠合板，層壓板，無邊界晶體硅，多晶硅，單晶硅，實驗板，債務償還，返工，光伏模塊回收等。

刻蝕工藝

刻蝕目的

將硅片邊緣的帶有的磷去除干凈，避免 PN 結短路造成并聯電阻降低。

刻蝕原理

采用干法刻蝕。采用高頻輝光放電反應， 采用高頻輝光放電反應，使反應氣體激活成活性粒子，如原子或各種游離基，這些活性粒子擴散到硅片邊緣，在那里與硅進行反應，形成揮發性生成物四氟化硅而被去除。

化學公式： CF 4 SIO 2 =SIF 4 CO 2

工藝流程

預抽，主抽，送氣，輝光，抽空，清洗，預抽，主抽   ，充氣。

影響因素

1. 射頻功率

射頻功率過高：等離子體中離子的能量較高會對硅片邊緣造成較大的轟擊損傷，導致邊緣區域的電性能差從而使電池的性能下降。在結區（耗盡層）造成的損傷會使得結區復合增加。

射頻功率太低：會使等離子體不穩定和分布不均勻，從而使某些區域刻蝕過度而某些區域刻蝕不足，導致并聯電阻下降。

2. 時間

刻蝕時間過長：刻蝕時間越長對電池片的正反面造成損傷影響越大，時間長到一定程度損傷不可避免會延伸到正面結區，從而導致損傷區域高復合。

刻蝕時間過短：刻蝕不充分，沒有把邊緣鱗去干凈， PN 結依然有可能短路造成并聯電阻降低。

4.   壓力

壓力越大，氣體含量越少，參與反應的氣體也越多，刻蝕也越充份。