高純供氣系統生產廠家常用解決方案“本信息長期有效”

大宗特氣供氣系統介紹

大宗特氣供氣系統主要針對大規模量產的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產線（氣體種類包括NH3），發光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產線（氣體種類包括HCL）等行業。系統采用一拖一、一拖多、多拖一和多拖多的管道式輸氣方式，在一拖多時能夠實現分段控制和在多拖一和多拖多時能夠實現切換控制。它們的投資規模巨大，采用1先進的工藝制程設備，用氣需求量大，對穩定和不間斷供應、純度控制和安全生產提出嚴格的要求。

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試驗室供氣需求

目前大多數試驗室中的各種分析儀器如氣相色譜儀、氣相色譜質譜儀、液相色譜質譜儀、原子吸收分光光度計、原子熒光光度計、等離子發射光譜儀、電感耦合等離子質譜儀等都需要連續使用高純載氣和燃氣，因此試驗室的安全、連續、穩定運行需要我們考慮如何將這些氣體供到各試驗室中放置的分析儀器。每種氣體可以將多瓶氣體并聯然后通過一個出口統一減壓后運送氣體至使用點。

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氦質譜檢漏儀

隨著科技的迅猛發展，氦質譜檢漏儀及其應用技術也在不斷發展和究善。（1）特氣柜又分為全自動特氣柜與半自動特氣柜，每種氣柜的維護方法有一定的區別。各國的設備廠商相繼推出了多種類烈的氦質譜檢漏儀，廣泛應用丁航空航天，電力電子，汽車等各個行業，綜觀1新氦質譜檢漏儀的性能特點發現，氦質譜檢漏儀正向著高靈敏度、自動化、寬程、等先進方向發展，這些特點很好地滿足了當前檢漏應用的需求，也極大地1推動了氮質譜檢漏技術的不斷發展。

高純氣體的輸送管路系統

隨著微電子工業的發展，超大規模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導體制造工藝中的氣體品質相應越來越高，對氣體中雜質和露1點要求極為嚴格，需要達到ppb、ppt級，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對高純氣體的輸送管路系統提出了非常高的要求 。特氣系統知識分享：標準氣體所謂標準氣體就是用來校正測量儀器、評價測定方法、給出未知樣品氣標準值的氣體。