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真空鍍膜的膜層厚度如何測量？

在使用真空鍍膜機鍍膜之后，為了需要可能會要測量膜層的厚度，測量膜層的厚度用什么方法呢?

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅(qū)動擋板，保持蒸發(fā)速率。

只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的精準度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學厚度。

此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域，從而對膜層造成重大誤差。

光學監(jiān)控是高精密鍍膜的的優(yōu)選監(jiān)控方式，這是因為它可以更精準地控制膜層厚度(如果運用得當)。

精準度的改進源于很多因素，但根本的原因是對光學厚度的監(jiān)控。

PACVD硬質(zhì)涂層真空鍍膜機系統(tǒng)的特點：

（1）2個等離子激發(fā)源（射頻，直/直流脈沖）（2）安裝在兩邊的2閉合場非平衡磁控管濺射（3）帶有一個前門的六角形真空室，保證一個潔凈的環(huán)境（4）干式真空系統(tǒng)設(shè)計安裝在一個單獨的空間，處理高吞吐量的碳氫化合物和其他工藝氣體（5）基材和導電與非導電涂層及組合原位清洗的離子激發(fā)系統(tǒng)（6）可選擇的等離子體激發(fā)模式和頻率使等離子的密度和能量適應基材增壓特性，以小壓強進行電離作用（8）單獨的PACVD工藝中不強制轉(zhuǎn)動的時候，一種行星式轉(zhuǎn)動也能夠使濺射涂層統(tǒng)一沉積（9）特別是在PACVD過程特殊設(shè)計的進氣系統(tǒng)能夠優(yōu)化涂層的均勻性和清潔度（10）泵的選擇編排和上下的蒸汽壓力調(diào)節(jié)，保證了涂層系統(tǒng)的高可靠性（11）iFIX基礎(chǔ)的控制系統(tǒng)，易于批次、配方和報警處理（12）所有數(shù)據(jù)的采集，保證良好的過程控制。工藝過程中定制曲線圖做到良好檢查方案。在批次運行過程中，操作者也可更改或新建工藝（13）用戶可自行設(shè)置進入控制系統(tǒng)的權(quán)限，以保證系統(tǒng)的質(zhì)量和安全性

PVD真空鍍膜機能鍍哪些物件和顏色?

我們生活離不開炫彩靚麗的工具和物件，然后這些看起來視覺效果美觀的工具和物件，都是通過鍍了一層薄薄的膜，才能實現(xiàn)這樣的效果，大到飛機、航母，小到家庭餐具、手表，可以說鍍膜工藝，無處不在。隨著人們的生活水平不斷的提高，對鍍膜工藝要求也就越來越高。之前鍍膜是通過傳統(tǒng)的水鍍方式來實現(xiàn)的，現(xiàn)在PVD真空鍍膜機鍍膜工藝，被更多的人認可和追隨。有很多人很疑惑，為什么PVD真空鍍膜被那么多人認可，它到底有什么優(yōu)勢？今天至成真空小編為大家詳細講些：

PVD技術(shù)出現(xiàn)于二十世紀七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學穩(wěn)定性等優(yōu)點。它主要是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。起初的時候后在高速刀具領(lǐng)域的成功應用引起了世界各國制造業(yè)的高度重視，人們在開發(fā)、高可靠性涂層設(shè)備的同時，也在硬質(zhì)合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的涂層應用研究。

與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內(nèi)部應力狀態(tài)為壓應力，更適于對硬質(zhì)合金精密復雜刀具的涂層；PVD工藝對環(huán)境無不利影響，符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。當前PVD涂層技術(shù)已普遍應用于硬質(zhì)合金立銑刀、鉸刀、絲錐、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、可轉(zhuǎn)位銑刀片、車刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。

那么PVD能鍍出哪些顏色呢？據(jù)了解PVD鍍膜機鍍膜工藝目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。在鍍膜的過程中通過調(diào)控相關(guān)參數(shù)，可以控制鍍出的顏色;鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對顏色值進行測量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。