高純供氣系統生產廠家誠信企業「多圖」

大宗特氣供氣系統介紹

大宗特氣供氣系統主要針對大規模量產的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產線（氣體種類包括NH3），發光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產線（氣體種類包括HCL）等行業。氣體凈化系統根據需求采用常溫或者高溫吸附劑，電化學拋光316L不銹鋼管件，出氣口配置微米過濾器，其氣體純化指標達到各項雜質含量小于1ppb的世界先進水平。它們的投資規模巨大，采用1先進的工藝制程設備，用氣需求量大，對穩定和不間斷供應、純度控制和安全生產提出嚴格的要求。

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試驗室供氣現狀

目前我們可以用采用高壓氣瓶、液體杜瓦瓶、集中供氣系統完成上述工作。同時，當地消防規范建議甚至要求將主要的氣體源如氣瓶、杜瓦瓶和液體儲槽放置在工作區外的指1定區域，然后將氣體通過管道系統輸送至試驗室內。

但是考慮安全和效率因素，不考慮經濟性因素，集中供氣系統是比較優1秀的方式。并成為當今試驗室設備使用高純氣體的可靠連續的供應源，氣體通過管道系統輸送至試驗室內，并可通過安裝在工作臺上的使用點二級減壓器方便地調節壓力和流量。

國內比較老的試驗室在使用氣體的時候大多是將氣瓶放在用氣點的旁邊，然后在氣瓶出口處安裝一個減壓器，然后直接通過紫銅管或四氟軟管連接到儀器上，如果一個試驗室里有多個使用設備時，就會有很多氣瓶，同時有很多雜亂的管路，同時這些氣體不乏有毒氣體、強腐蝕氣體，以及氣瓶出口高壓等因素，使得這種方式在現實使用過程中是充滿危險性的。如需了解更多高純供氣系統的相關信息，歡迎關注艾明坷網站或撥打圖片上的電話詢。

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氦質譜檢漏儀

真空檢漏的方法很多，氦質譜檢漏儀的使用大大提升了檢漏工作效率。

漏孔是指真空器壁上存在的形狀不定、極其微小的空洞或間隙。大氣通過其進入真空系統或容器中；

漏率（漏氣速率）：是指單位時間內通過漏孔或間隙流入到真空系統或容器的氣體量；

1小可檢漏率：是指采用某種檢漏方法或儀器可能檢測出來的1小漏率；

檢漏靈敏度：也叫有效靈敏度，指檢漏儀器在1佳工作狀態下能檢出的1小漏率；

反應時間：也稱響應時間，是指從檢漏方法開始實施（如噴射示漏氣體）到指示方法或儀器指示值上升到其漏孔1大泄漏率的63%時所需要的時間；

消除時間：是指從檢漏方法停止（如停止噴吹示漏氣體）到指示方法或儀器指示值下降到漏孔泄漏率的37%時所需的時間；

漏孔堵塞現象：指由于真空檢漏作業操作不當導致塵埃或液體堵塞漏孔，檢漏時似乎不漏氣，但一經排氣就會出現漏氣的一種現象。

小流量氣體凈化系統

高純供氣系統主要應用于鋼瓶氣、管道氣及氣體發生器等的高純連續供氣，應用于超微量水、氧分析儀、氣相色譜儀、常壓離子質譜儀等各類氣體分析儀器純化載氣或零點氣，也可用于超高純度氣體管道安裝施工中的吹掃氣體，更可以為半導體工藝設備提供超高純的工藝氣體。漏率（漏氣速率）：是指單位時間內通過漏孔或間隙流入到真空系統或容器的氣體量。

氣體凈化系統根據需求采用常溫或者高溫吸附劑，電化學拋光316L不銹鋼管件，出氣口配置微米過濾器，其氣體純化指標達到各項雜質含量小于1ppb的世界先進水平。

氣體配比儀采用質量流量計，電化學拋光316L不銹鋼管件，雙卡套或者VCR氣體接頭。