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發(fā)布時(shí)間:2020-12-22 05:54  
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非曝光區(qū)的光刻膠由于在曝光時(shí)并未發(fā)生化學(xué)反應(yīng),在顯影時(shí)也就不會(huì)存在這樣的酸堿中和,因此非曝光區(qū)的光刻膠被保留下來。經(jīng)過曝光的正膠是逐漸溶解的,中和反應(yīng)只在光刻膠的表面進(jìn)行,因此正膠受顯影液的影響相對(duì)比較小。進(jìn)行顯影的方式有很多種,廣泛使用的方法是噴灑方法。這種顯影方式可以分為三個(gè)階段:硅片被置于旋轉(zhuǎn)臺(tái) 上,并且在硅片表面上噴灑顯影液;然后硅片將在靜止的狀態(tài)下進(jìn)行顯影;顯影完成后,需要經(jīng)過漂洗,之后再烘干。
光刻機(jī)目前一直處于壟斷地位,在光刻機(jī)領(lǐng)域,有名的就要提到ASML公司了,它是一家荷蘭的公司。剛開始光刻機(jī)領(lǐng)域比較厲害的兩個(gè)國家是荷蘭和日本,而在2017年之后,ASML聯(lián)合臺(tái)積電推出了光源浸沒式系統(tǒng)開始,將日本企業(yè)甩開距離,從此穩(wěn)坐頭把交椅的寶座。技術(shù)一直處于壟斷地位。
一臺(tái)好的光刻機(jī)需要各種的零件支持,而這些零件大部分都來自西方的國家。而這些基本上都是禁止對(duì)我們國家出口,因此我國光刻機(jī)技術(shù)受到限制。