舟山鈦金真空鍍膜值得信賴“本信息長期有效”

鈦金真空鍍膜武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務的廠家，主要鍍膜產品有不銹鋼，鐵，鋁合金，玻璃制品，塑料工藝制品等，鍍膜顏色多樣豐富，可根據客戶的產品進行設計和定制。

恒緣鈦金與您分享金屬表面鍍膜

金屬表面鍍膜是指在真空環境下，將某類金屬材料或非金屬材料以氣相的形式沉積到材料表面，產生一層層高密度的塑料薄膜。各種鍍膜技術都需要有一個蒸發源或靶子，以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。隨之社會發展的進步和科技的發展趨勢，金屬制造在工業、農業及其大家的衣食住行各行各業的應用更加廣泛應用，也給社會發展造就越來越大的價值。金屬制品暴露在空氣中是很易于被空氣氧化和被金屬腐蝕的，在金屬表面鍍膜是一種維護金屬不被氧化腐蝕的方式。

恒緣鈦金廠將竭誠為您提供周到的表面處理加工服務。歡迎您致電圖片上方的聯系方式。

恒緣鈦金與您分享PVD離子鍍膜優點

PVD離子鍍膜具有如下優點：

A.膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨

B.離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件0v R0S4

C.膜層沉積速率快，生產

D.可鍍膜層種類廣泛

E.膜層性能穩定、安全性高(獲得FDA認證，可植入人體).

恒緣鈦金與您分享鍍膜中常見的幾種離子源

離子源類型雖多，目的卻無非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調制增加反應氣體能量。恒緣鈦金與您分享鍍膜中常見的幾種離子源離子源類型雖多，目的卻無非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調制增加反應氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結合強度，同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善。若是鍍工具耐磨層，一般厚度較大而對膜厚均勻性要求不高，可采用離子電流較大能級也較高的離子源，如霍爾離子源或陽極層離子源。

陽極層離子源，與霍爾離子源原理近似。在一條環形（長方形或圓形）窄縫中施加強磁場，在陽極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。由于基材不一樣，其前期所處理的工藝完全不一樣，但是后續電鍍基本都一樣。陽極層離子源可以做得很大很長，特別適合鍍大工件，如建筑玻璃。陽極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發散，且能級分布太寬。一般適用于大型工件，玻璃，磨損，裝飾工件。但應用于髙級光學鍍膜并不太多。

考夫曼離子源是應用較早的離子源。例如，不銹鋼件拋光時，零件的不銹鋼成分、特性、金相組織結構以及表面的狀況是確定的，但使用的電拋光液的成分及配方、拋光工藝條件等會相互影響。屬于柵格式離子源。首先由陰極在離子源內腔產生等離子體，讓后由兩層或三層陽極柵格將離子從等離子腔體中抽取出來。這種離子源產生的離子方向性強，離子能量帶寬集中，可廣泛應用于真空鍍膜中。缺點是陰極（往往是鎢絲）在反應氣體中很快就燒掉了，另外就是離子流量有極限，對需要大離子流量的用戶可能不適和。

霍爾離子源是陽極在一個強軸向磁場的協作下將工藝氣體等離子化。這個軸向磁場的強不平衡性將氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場的作用太強，霍爾離子源離子束需要補充電子以中和離子流。常見的中和源就是鎢絲（陰極）。

恒緣鈦金與您分享

真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發或離子鍍等技術， 在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。東莞千屹真空電鍍的師傅說，脫脂除油以及酸洗是電鍍前處理里面的一道工序。與傳統化學鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優點：如對環境無污 染，是綠色環保工藝;對操作者無傷害;膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強，膜厚均勻。

真空鍍膜技術中經常使用的方法主要有：蒸發鍍膜(包括電弧蒸發、電子槍蒸發、電阻絲蒸發等技術)、濺射鍍膜(包 括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術)，這些方法統稱物理氣相沉積， 簡稱為PVD。而拋光的目的是為了降低工件表面的粗糙度，使產品的外觀更加光亮，拋光一般分為機械拋光、化學拋光、電化學拋光等方式。與之對應的化學氣相沉積簡稱為CVD技術。行業內通常所說的“IP”(ion plating)離子鍍膜，是因為在PVD技術中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用，為了強調離子的作 用，而統稱為離子鍍膜。