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派瑞林材料有何優勢，為何深受市場歡迎？

1.氣相沉積：可工業化應用的氣相沉積高分子材料。 2.復雜表面的完全敷型性：由于采用氣相沉積工藝，氣態的單體裂解成自由基后直接在固體表面聚合成固態的高分子薄膜，所以在涂敷材料表面上，無論形態多復雜，都能無孔不入，不會留下死角。 3.納米級：根據氣態單體濃度和沉降聚合時間，可以得到均勻的可控厚度的涂敷薄膜，其厚度在0.1~10微米，甚至幾十納米。 4.耐腐蝕：薄膜的組成是聚對二高分子材料，水，氣透過率極低，可防水，防鹽霧，耐酸堿，。 5.絕緣性能：既有低的介質損耗和高的介電強度，又有高的機械強度和低的摩擦系數，適合大部分電子產品的應用。 6. 其他：透明無應力，韌性強，摩擦系數低，不含助劑，不損傷工件，相比于尼龍或特氟龍涂敷工藝的低費用等。

        鐵氧體磁性材料及稀土永磁：高導磁軟磁鐵氧體小磁芯以其體積小、性能高、用量大、市場前景好被我國磁性材料行業作為今后10-15年的發展產品。這些產品的表面采用Parylene來涂上一層保護層，以增強產品表面的絕緣性、堅固性、光滑性。這種涂層是傳統的還氧噴涂所沒有的；稀土永磁產品在汽車、音箱、磁療、電機等領域的運用大。但是這類產品表面的耐腐蝕要求非常高。普通的電鍍、電泳處理的后的產品的耐鹽霧時間能達到70-100小時。而采用Parylene可以達到300-500小時。其耐腐蝕時間是前者的4-5倍。磁性材料（絕緣、防銹、防線傷、填補穩定特性制作）。

       1、光學特性：Parylene在可見光的范圍內吸收得很少，因此是透明無色的。無色透明的薄膜可用于光學器件、可擦性光電儲存器件和靜電復印器件。在低于280微米時，Parylene  N 和Parylene C 的吸收都很強。

       2、性和氣候變化抵抗能力：在真空中，Parylene N,C和D薄膜表現出很高的抵抗伽瑪射線衰變的能力。張力和電氣性能在1.6Mr/h的劑量率下加到100Mr之后仍舊保持不變。雖然Parylene在室內穩定，但建議不要在室外陽光直接照射的環境下長期使用。

派瑞林薄膜制備過程為環狀二聚體在高溫下兩個相連碳鍵斷裂

常用制備派瑞林的方法是化學氣相沉積法(CVD)，反應物質在氣態條件下發生空間氣相化學反應，在固態基體表面直接生成固態物質，進而在基材表面形成涂層的一種工藝技術。派瑞林薄膜制備過程為環狀二聚體在高溫下兩個相連碳碳鍵斷裂，生成具有活性的對二亞苯單體，當其從高溫環境進入室溫環境的沉積室時，不穩定的單體就會聚合成膜。整個制備工藝過程分為三步：單體的汽化、裂解、在基材表面進行附著沉積。