激光脈沖沉積裝置報價推薦【沈陽鵬程】

脈沖激光沉積簡介

隨著現代科學和技術的發展，薄膜科學已成為近年來迅速發展的學科領域之一，是凝聚態物理學和材料科學的一個重要研究領域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面，它不僅具有豐富的物理內涵，而且在微電子、光電子、超導材料等領域具有十分廣泛的應用。長期以來，人們發明了多種制膜技術和方法：真空蒸發沉積、離子束濺射、磁控濺射沉積、分子束外延、金屬有機化學氣相沉積、溶膠- 凝膠法等。上述方法各有特點，并在一些領域得到應用。但由于其各有局限性，仍然不能滿足薄膜研究的發展及多種薄膜制備的需要。脈沖激光沉積系統(PLD)的特點PLD系統擁有好的性能價比，具有以下優異的性能:★主真空室抽氣系統前級泵采用無油干泵★基片加熱溫度可達1200℃。隨著激光技術和設備的發展，特別是高功率脈沖激光技術的發展，脈沖激光沉積（PLD）技術的特點逐漸被人們認識和接受

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脈沖激光沉積機制

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PLD的系統設備簡單，相反，它的原理卻是非常復雜的物理現象。它涉及高能量脈沖輻射沖擊固體靶時，激光與物質之間的所有物理相互作用，亦包括等離子羽狀物的形成，其后已熔化的物質通過等離子羽狀物到達已加熱的基片表面的轉移，及膜的生成過程。熔化機制涉及許多復雜的物理現象，例如碰撞、熱，與電子的激發、層離，以及流體力學。所以，PLD一般可以分為以下四個階段：

1. 激光輻射與靶的相互作用

2. 熔化物質的動態

3. 熔化物質在基片的沉積

4. 薄膜在基片表面的成核（nucleation）與生成。

脈沖激光沉積選件介紹

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連續組成擴展(CCS )

常規沉積條件下的組合合成

組合合成是一種基于脈沖激光沉積的、組合材料合成的新型連續組成擴展(CCS) 方法。PLD-CCS 系統能以連續的方式改變材料，沒有必要使用掩模。可以在每一次循環中，以小于一個單分子層的速率，快速連續沉積每一種組份，其結果是基本等同于共沉積法。該法無需在沉積后進行退火促進內部擴散或結晶，對于生長溫度是關鍵參數的研究或者被沉積的材料或基片不適合高溫退火的情況是有用的。Pioneer系統采用可變的靶和基片的距離，對沉積條件進行較大的控制。