您好，歡迎來到易龍商務網！
發布時間：2020-10-28 15:41
【廣告】
ST系列鍍膜機
ST系列鍍膜機系我司標準化產品，滿足大部分實驗室科研需求，豐富的可選配置也可響應您的特殊需要。特點：1、集成一體化結構。
2、極限真空度高，可達7×10-5Pa，可保證更高的鍍膜純凈度，提高鍍膜質量。
3、從大氣到工作背景真空（7×10-4Pa）時間短，30分鐘左右（充干燥氮氣）。 系統停泵關機12小時后真空度：≤8Pa。
4、整機采用柜式結構，密封性能好，防塵防水，安全。
5、磁控、熱蒸發多種鍍膜方式可選。
本信息由艾明坷為您提供，如果您想了解更多產品信息，您可撥打圖片上的電話咨詢，艾明坷竭誠為您服務！
薄膜均勻性概念
1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。隨著經濟的發展，普通玻璃已越來越不能滿足人們的要求，而陽光控制膜和低輻射膜正好能彌補了普通玻璃在這一方面的不足。
2.化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。了解被抽氣體成分，氣體中含不含可凝蒸氣，有無顆粒灰塵，有無腐蝕性等。
以上內容由艾明坷為您提供，今天我們來分享的是薄膜均勻性概念的相關內容，希望對您有所幫助！
真空鍍膜技術的應用領域
在平板顯示器中
所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜，而且，幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜，以滿足透明電器的要求。可以毫不夸張的說，沒有薄膜技術，就沒有平板顯示器件。
在太陽能利用方面
當需要有效地利用太陽熱能時，就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。由于太陽輻射與熱輻射光譜在波段上有差異，因此，為了有效地利用太陽熱能，就必須考慮采用具有波長選擇特性的吸收面。厚度均勻性主要取決于：1、基片材料與靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3、蒸發功率，速率4。
理想的選擇吸收面，是太陽輻射光譜的波段（可見光波段）吸收率（α）為1，在熱輻射波段（紅外波段）輻射率（ε）為0。
在防偽技術中
防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。
在飛機防護涂層方面
飛機的鈦合金緊固件，原來采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫，所以在飛行過程中，受到大氣、海水的腐蝕，鍍層上容易產生“鎘脆”，甚至引起“空難”。
1964年，采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁，解決了飛機零件的“鎘脆”問題。在離子鍍技術中，由于給工件施加負偏壓，可以形成“偽擴散層”、細化膜層組織，因此，可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。
在光學儀器中
人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。
在信息存儲領域中
薄膜材料作為信息記錄于存儲介質，有其得天獨厚的優勢：
由于薄膜很薄，可以忽略渦流損耗；磁化反轉極為迅速；與膜面平行的雙穩態狀態容易保持等。
為了更精密地記錄與存儲信息，必然要采用鍍膜技術。
在傳感器方面
在傳感器中，多采用那些電氣性質相對于物理量、化學量及其變化來說，極為敏感的半導體材料。此外，其中，大多數利用的是半導體的表面、界面的性質，需要盡量增大其面積，且能工業化、低價格制作，因此，采用薄膜的情況很多。
在集成電路制造中
晶體管路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線等，多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術。可見，氣相沉積是制備集成電路的核心技術之一。
