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電光調制器的設計與選擇

調制晶體對電光調制的效果影響顯著，在選擇晶體時應注意以下幾點：光學性能好，折射率均勻，吸收色散損耗小，透明度高，電光系數大，物理性能優越等等。目前較常用的晶體材料包括鈮酸鋰和KDP類晶體，由于KDP類晶體的物理性能不佳，容易發生潮解，因此其調制性能往往受到環境限制，而鈮酸鋰晶體則具有優越的透光性和物理性能，是電光調制晶體設計的理想材料。目前市場上使用普遍的主要是電光調制器EOM和電吸收調制器EAM。

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選擇電光調制器推薦康冠光電

康冠光電在售的電光調制器，采用先進的鈮酸鋰質子交換工藝和鈦擴散工藝，可以實現相位調制和強度調制，具有高調制帶寬、低插入損耗、低半波電壓、高消光比等特點，在性能參數上可以取代國外調制器，性價比高，能夠滿足客戶在高速光通信、光纖傳感、微波光子學、量子信息、激光調制等領域的應用，此外還可根據用戶需求定制特殊結構和參數的調制器產品。另一種是通光方向與所加電場方向相垂直，稱橫向電光效應（也稱為橫向運用）。

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光波在介質中的傳播規律受到介質折射率分布的制約，而折射率的分布又與其介電常量（電容率）密切相關。晶體折射率可用施加電場E的冪級數表示，即或寫成式中， γE 是一次項，由該項引起的折射率變化，稱為線性電光效應或泡克耳斯(Pockels)效應；在整體光通信的光發射、傳輸、接收過程中，光調制器被用于控制光的強度，其作用是非常重要的。由二次項 bE2 引起的折射率變化，稱為二次電光效應或克爾（Kerr ）效應。對于大多數電光晶體材料，一次效應要比二次效應顯著，可略去二次項。

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電光調制器(EOM)

電光調制器(EOM)是激光外調制中為有效的 器件， 廣泛應用于高速光纖通信和分布式光纖傳感系統中。目前使用較多的電光調制器是鈮酸鋰電光 調制器，由于其對輸入光的偏振態比較敏感，要使調制器的調制效果達到較佳，即輸出光功率大，須使輸入光的偏振方向 始終與EOM 內部可傳播模式偏 振方向保持一致。850nm電光強度調制器KG-AM系列850nm鈮酸鋰電光強度調制器采用先進的質子交換工藝，具有低插入損耗、高調制帶寬、低半波電壓等特點，主要用于空間光通信系統、銫原子時間基準、脈沖發生器、量子光學等領域。