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發(fā)布時(shí)間:2020-12-09 07:16  
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真空鍍膜技術(shù)可增加五金飾品發(fā)展勢(shì)頭
五金飾品是今年來在中國(guó)制造業(yè)興起的產(chǎn)業(yè),隨著我國(guó)生活水平的提高,人們對(duì)金屬產(chǎn)品的美觀感越來越重視。同時(shí)歐美市場(chǎng)本來就有五金裝飾的傳統(tǒng),所以這個(gè)行業(yè)越來越有蓬勃發(fā)展的勢(shì)頭。
五金飾品的美觀感如何得來呢?這就要說到鍍膜技術(shù)。
五金飾品美觀感需要使用真空鍍膜技術(shù),需要采用磁控多弧離子鍍膜方式在物品表面鍍制金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜,增加產(chǎn)品美觀感,提高產(chǎn)品檔次。
真空鍍膜機(jī)液態(tài)電漿拋光原理
真空鍍膜機(jī)此方法將待拋光工件浸入加熱的電解質(zhì)水溶液中,并對(duì)其施加正極性電壓,該電解液無公害且廉價(jià)低濃度,所施加的電壓為直流電壓,工件可以是不銹鋼、工具鋼、低碳鋼、銅、金和鋁等導(dǎo)電材料。在適當(dāng)?shù)墓ぷ鳁l件下,
真空鍍膜機(jī)工件表面會(huì)出現(xiàn)穩(wěn)定的蒸氣氣體層,該氣體層會(huì)把被處理表面與電解質(zhì)水溶液隔開,從而導(dǎo)致表面與電解液蒸氣之間產(chǎn)生強(qiáng)烈的等離子體化學(xué)和電化學(xué)反應(yīng),使被處理表面產(chǎn)生陰極氧化,同時(shí)又使陰極氧化層受到化學(xué)侵蝕,在氧化速度與侵蝕速度相等時(shí)出現(xiàn)拋光效果,其表現(xiàn)為光潔度上升及反射率提高。當(dāng)氧化層薄且又足以抵御侵蝕作用時(shí),
真空鍍膜機(jī)其反射率出現(xiàn)高值。微觀不平處的氧化層薄,因此侵蝕總是發(fā)生在凸起部位。此外,被拋光表面被施加足夠高的電壓后,它和氣體層、蒸氣、電解液之間會(huì)產(chǎn)生很高的電場(chǎng)強(qiáng)度,這種強(qiáng)度也在微觀不平處得到強(qiáng)化。這些作用的綜合效果,使表面微觀凸起部位被削平,達(dá)到拋光效果。
真空鍍膜機(jī)等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài),是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象,使氣態(tài)粒子部分電離,這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子。真空鍍膜機(jī)等離子就是在高溫高壓下,拋光劑水溶,在高溫高壓下,電子會(huì)脫離原子核而跑出來,原子核就形成了一個(gè)帶正電的離子,當(dāng)這些離子達(dá)到一定數(shù)量的時(shí)候可以成為等離子態(tài),等離子態(tài)能量很大,當(dāng)這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r,頃刻間會(huì)使物體達(dá)到表面光亮的效果
真空鍍膜機(jī)設(shè)備真空鍍膜機(jī)系統(tǒng)組成
真空鍍膜機(jī)等離子體束濺射鍍膜機(jī)主要由射頻等離子體源、真空獲得系統(tǒng)、電磁線圈(發(fā)射線圈及匯聚線圈)、偏壓電源、真空室(包括靶材及基片等)、真空控制系統(tǒng)等部分構(gòu)成。其顯著特點(diǎn)是它的等離子體發(fā)生控制系統(tǒng),其示意圖如圖1所示。等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)是鍍膜機(jī)中的關(guān)鍵部分,其中射頻等離子體源位于真空室的側(cè)面,并在等離子體源的出口處及濺射靶材的下方分別配置有一個(gè)電磁線圈。當(dāng)兩個(gè)線圈同向通過電流時(shí),線圈合成的磁場(chǎng)將引導(dǎo)等離子體源中產(chǎn)生的電子沿磁場(chǎng)方向運(yùn)動(dòng),從而使等離子體束被約束在磁場(chǎng)方向上。同時(shí)靶材加有負(fù)偏壓,使濺射離子在電場(chǎng)的作用下加速撞擊靶表面,產(chǎn)生濺射作用。
真空鍍膜機(jī)等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)
真空鍍膜機(jī)這種鍍膜機(jī)具有非常靈活的控制方式,例如濺射速率可以通過調(diào)節(jié)靶材偏壓和改變等離子體源的射頻功率這兩種途徑進(jìn)行調(diào)節(jié)。等離子體發(fā)生裝置與真空室的分離設(shè)計(jì)是實(shí)現(xiàn)濺射工藝參數(shù)寬范圍可控的關(guān)鍵,而這種參數(shù)闊范圍的可控性使得特定的應(yīng)用能夠獲得優(yōu)化的工藝參數(shù)。此外,還可以通過控制系統(tǒng)的真空度來進(jìn)行濺射速率的調(diào)節(jié)。
真空鍍膜機(jī)中所示曲線為靶電流與偏壓曲線、恒定電流密度時(shí)濺射速率與靶偏壓的關(guān)系,其中恒定電流時(shí)射頻功率為500W。