離子鍍膜設(shè)備廠家詢問報價【至成真空科技】

真空鍍膜技術(shù)可增加五金飾品發(fā)展勢頭

五金飾品是今年來在中國制造業(yè)興起的產(chǎn)業(yè)，隨著我國生活水平的提高，人們對金屬產(chǎn)品的美觀感越來越重視。同時歐美市場本來就有五金裝飾的傳統(tǒng)，所以這個行業(yè)越來越有蓬勃發(fā)展的勢頭。

五金飾品的美觀感如何得來呢?這就要說到鍍膜技術(shù)。

五金飾品美觀感需要使用真空鍍膜技術(shù)，需要采用磁控多弧離子鍍膜方式在物品表面鍍制金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜，增加產(chǎn)品美觀感，提高產(chǎn)品檔次。

真空鍍膜機(jī)液態(tài)電漿拋光原理

真空鍍膜機(jī)此方法將待拋光工件浸入加熱的電解質(zhì)水溶液中，并對其施加正極性電壓，該電解液無公害且廉價低濃度,所施加的電壓為直流電壓，工件可以是不銹鋼、工具鋼、低碳鋼、銅、金和鋁等導(dǎo)電材料。在適當(dāng)?shù)墓ぷ鳁l件下，

真空鍍膜機(jī)工件表面會出現(xiàn)穩(wěn)定的蒸氣氣體層，該氣體層會把被處理表面與電解質(zhì)水溶液隔開，從而導(dǎo)致表面與電解液蒸氣之間產(chǎn)生強(qiáng)烈的等離子體化學(xué)和電化學(xué)反應(yīng)，使被處理表面產(chǎn)生陰極氧化，同時又使陰極氧化層受到化學(xué)侵蝕，在氧化速度與侵蝕速度相等時出現(xiàn)拋光效果，其表現(xiàn)為光潔度上升及反射率提高。當(dāng)氧化層薄且又足以抵御侵蝕作用時，

真空鍍膜機(jī)其反射率出現(xiàn)高值。微觀不平處的氧化層薄，因此侵蝕總是發(fā)生在凸起部位。此外，被拋光表面被施加足夠高的電壓后，它和氣體層、蒸氣、電解液之間會產(chǎn)生很高的電場強(qiáng)度，這種強(qiáng)度也在微觀不平處得到強(qiáng)化。這些作用的綜合效果，使表面微觀凸起部位被削平，達(dá)到拋光效果。

真空鍍膜機(jī)等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子。真空鍍膜機(jī)等離子就是在高溫高壓下，拋光劑水溶，在高溫高壓下，電子會脫離原子核而跑出來，原子核就形成了一個帶正電的離子，當(dāng)這些離子達(dá)到一定數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，當(dāng)這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r，頃刻間會使物體達(dá)到表面光亮的效果

真空鍍膜機(jī)設(shè)備真空鍍膜機(jī)系統(tǒng)組成

真空鍍膜機(jī)等離子體束濺射鍍膜機(jī)主要由射頻等離子體源、真空獲得系統(tǒng)、電磁線圈（發(fā)射線圈及匯聚線圈）、偏壓電源、真空室（包括靶材及基片等）、真空控制系統(tǒng)等部分構(gòu)成。其顯著特點是它的等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)，其示意圖如圖1所示。等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)是鍍膜機(jī)中的關(guān)鍵部分，其中射頻等離子體源位于真空室的側(cè)面，并在等離子體源的出口處及濺射靶材的下方分別配置有一個電磁線圈。當(dāng)兩個線圈同向通過電流時，線圈合成的磁場將引導(dǎo)等離子體源中產(chǎn)生的電子沿磁場方向運動，從而使等離子體束被約束在磁場方向上。同時靶材加有負(fù)偏壓，使濺射離子在電場的作用下加速撞擊靶表面，產(chǎn)生濺射作用。

真空鍍膜機(jī)等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)

真空鍍膜機(jī)這種鍍膜機(jī)具有非常靈活的控制方式，例如濺射速率可以通過調(diào)節(jié)靶材偏壓和改變等離子體源的射頻功率這兩種途徑進(jìn)行調(diào)節(jié)。等離子體發(fā)生裝置與真空室的分離設(shè)計是實現(xiàn)濺射工藝參數(shù)寬范圍可控的關(guān)鍵，而這種參數(shù)闊范圍的可控性使得特定的應(yīng)用能夠獲得優(yōu)化的工藝參數(shù)。此外，還可以通過控制系統(tǒng)的真空度來進(jìn)行濺射速率的調(diào)節(jié)。

真空鍍膜機(jī)中所示曲線為靶電流與偏壓曲線、恒定電流密度時濺射速率與靶偏壓的關(guān)系，其中恒定電流時射頻功率為500W。