PVD中頻離子鍍膜機(jī)在線咨詢「多圖」

光學(xué)真空鍍膜設(shè)備該如何進(jìn)行保養(yǎng)

光學(xué)真空鍍膜設(shè)備主要由真空鍍膜機(jī)室、真空抽氣機(jī)組限及電柜（控制電柜、電子槍電樞）組成，其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。光學(xué)真空鍍膜設(shè)備在防止油污染和縮短工作周期等方面具有的性能。

光學(xué)真空鍍膜設(shè)備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對(duì)金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟龋牧鲜軣岷笳舭l(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成臘層。

多弧離子真空鍍膜機(jī)的由來

我國(guó)在真空鍍膜行業(yè)，目前更多的應(yīng)用都集中在裝飾方面，對(duì)能有效地提高關(guān)鍵部件使用壽命機(jī)械功能薄膜的制備設(shè)備、工藝及應(yīng)用研究方面還遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后于國(guó)外先進(jìn)水平。同時(shí)，裝飾鍍方面也逐漸向耐磨和裝飾雙重功能的方向發(fā)展，之前的離子鍍膜機(jī)已體現(xiàn)出不能滿足裝飾鍍要求的問題。本技術(shù)的研發(fā)成功，將打破國(guó)內(nèi)機(jī)械功能耐磨減摩薄膜完全依靠國(guó)外技術(shù)的被動(dòng)局面；對(duì)提高我國(guó)裝備制造業(yè)的技術(shù)水平和真空離子鍍的技術(shù)發(fā)展都是一個(gè)非常好的示范作用。另外，將制備的耐磨減摩薄膜應(yīng)用于其它關(guān)鍵部件中，起到了非常好的節(jié)約能源和提率的示范作用，可替代部分原來電鍍的工藝，對(duì)環(huán)境保護(hù)起到很好的作用。

目前，國(guó)際上機(jī)械功能硬質(zhì)薄膜（特別是刀具用膜層）大多采用陰極電弧沉積技術(shù)，但陰極電弧沉積存在的主要技術(shù)問題是所制備的膜層表面不夠光潔，有較多的顆粒，影響應(yīng)用性能；特別是國(guó)內(nèi)制造的陰極電弧沉積設(shè)備顆粒問題尤為嚴(yán)重。在此技術(shù)基礎(chǔ)上引入磁過濾技術(shù)，雖可解決表面沉積的顆粒問題，但沉積效率只有原來的1/10左右，并且沉積面積小，從而使生產(chǎn)周期長(zhǎng)，制造成本高，不適合大批量鍍膜生產(chǎn)應(yīng)用。而磁控濺射技術(shù)所制備的膜層表面光潔、細(xì)膩，沉積速率適中，能均勻地大面積沉積薄膜。但磁控濺射技術(shù)也存在離化率低（一般在10％），所制備的膜層在硬度、耐磨性及結(jié)合力上不如陰極電弧技術(shù)所制備的膜層；在進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)性鍍膜（如TiN、TiO2）時(shí)，由于金屬粒子的離化率低、反應(yīng)活性差，必須過量通入反應(yīng)性氣體，造成磁控靶面的毒化（化學(xué)反應(yīng)），引起蒸發(fā)速率急劇降低等一系列雪崩式后果，使得磁控濺射反應(yīng)鍍膜存在著不穩(wěn)定性和不可控性。

PVD技術(shù)都有那些分類呢

？PVD真空鍍膜機(jī)物理氣相沉積是一種物理氣相反應(yīng)生長(zhǎng)法，沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過“蒸發(fā)或?yàn)R射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。那么這兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮；PVD鍍膜不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。

在現(xiàn)階段，PVD鍍膜是不能取代化學(xué)電鍍的，并且除了在不銹鋼材料表面可直接進(jìn)行PVD鍍膜外，在很多其他材料（如鋅合金、銅、鐵等）的工件上進(jìn)行PVD鍍膜前，都需要先對(duì)它們進(jìn)行化學(xué)電鍍Cr(鉻)。PVD鍍膜主要應(yīng)用在一些比較五金制品上，對(duì)那些價(jià)格較低的五金制品通常也只是進(jìn)行化學(xué)電鍍而不做PVD鍍膜。