不銹鋼化學鍍硬鉻優惠報價「多圖」

1）鍍鎳的應用面很廣，可作為防護裝飾性鍍層，在鋼鐵、鋅壓鑄件、鋁合金及銅合金表面上，保護基體材料不受腐蝕或起光亮裝飾作用;也常作為其他鍍層的中間鍍層，在其上再鍍一薄層鉻，或鍍一層仿金層，其抗蝕性更好，外觀更美。在功能性應用方面，在特殊行業的零件上鍍鎳約1~3mm厚，可達到修復目的。特別是在連續鑄造結晶器、電子元件表面的模具、合金的壓鑄模具、形狀復雜的宇航發動機部件和微型電子元件的制造等方應用越來越廣泛。

2）鍍鎳層還廣泛的應用在功能性方面，如修復被磨損、被腐蝕的零件，采用刷鍍技術進行局部電鍍。采用電鑄工藝，用來制造印刷行業的電鑄版、唱片模以及其它模具。厚的鍍鎳層具有良好的耐磨性，可作為耐磨鍍層。尤其是近幾年來發展了復合電鍍，可沉積出夾有耐磨微粒的復合鎳鍍層，其硬度和耐磨性比鍍鎳層更高。若以石墨或氟化石墨作為分散微粒，則獲得的鎳-石墨或鎳-氟化石墨復合鍍層就具有很好的自潤滑性，可用作為潤滑鍍層。黑鎳鍍層作為光學儀器的鍍覆或裝飾鍍覆層亦都有著廣泛的應用。

硬鉻電鍍提髙效率與質量的方法：

1， 整流器要有足夠的容量，滿足大電流密度的要求，蕞低電流密度不小于20A/dm2（因為電流密度低會影響電流效率），電壓12~15V，直流輸出，紋波系數≤3%。

2， 應有足夠的加溫和冷卻設備，使操作溫度在工藝規定范圍內并且均勻。應有良好的循環攪拌設備，使鍍液各化學成分與溫度分布均衡。

3. 陽極材料：應采用含錫7%~15%的鉛錫合金，鉛應用電解鉛，錫含量建議取上限。

4. 雜質：鍍液中金屬離子的含量應控制在8g/L以下，CIˉ不宜超過100ppm。

5. 建議使用較高的電流密度（40~60A/dm2）和相適應的溫度。隨著槽液溫度升高和電流密度降低，會引起電流效率下降。

鍍硬鉻的槽液配制

㈠新配槽液一般按鉻酐200G/L，ST—927EK 24G/L，再加入一定量的試劑硫酸，使鉻酐與硫酸的比在100?1.0~1.5范圍內。

㈡配制步驟：

①加入2/3體積的去離子水（不能含有氯離子或硫酸根離子）于潔凈的鍍槽中，加熱至45oC~50oC左右。

②在連續攪拌下逐步加入所需的鉻酐。

③在連續攪拌下分別加入所需量的ST927—EK和硫酸。

④將溶液攪勻后，加入去離子水至蕞終體積。驗證槽液的濃度，必要時予以調整。

⑤加熱溫度至55~65oC。加入適量經本公司認可的抑霧劑。

⑥電解3~4小時后即可試鍍。