金屬真空鍍膜加工多重優(yōu)惠【泰坦金屬】

 2.2.2偏壓濺射biassputtering：在濺射過(guò)程中，將偏壓施加于基片以及膜層的濺射。

   2.2.3直流二級(jí)濺射directcurrenodesputtering：通過(guò)二個(gè)電極間的直流電壓，使氣體自持放電并把靶作為陰極的濺射。

   2.2.4非對(duì)稱(chēng)流濺射asymmtricalternatecurrentsputtering：通過(guò)二個(gè)電極間的非對(duì)稱(chēng)流電壓，使氣體自持放電并把靶作為吸收較大正離子流的電極。

   2.2.5高頻二極濺射highfrequencydiodesputtering：通過(guò)二個(gè)電極間的高頻電壓獲得高頻放電而使靶極獲得負(fù)電位的濺射。

   2.2.6熱陰極直流濺射（三極型濺射）hotcathodedirectcurrentsputtering：借助于熱陰極和陽(yáng)極獲得非自持氣體放電，氣體放電所產(chǎn)生的離子，由在陽(yáng)極和陰極（靶）之間所施加的電壓加速而轟擊靶的濺射。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱(chēng)基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱(chēng)為真空鍍膜。

真空鍍膜加工是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上。此項(xiàng)技術(shù)先用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片，如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。如手表外殼鍍仿金色，機(jī)械刀具鍍膜，改變加工紅硬性。

真空PVD鍍膜涂層可以解決部分壓鑄模具碰到的問(wèn)題，通過(guò)在模具表面沉積一層涂層，這一類(lèi)的涂層的顯著特點(diǎn)是具有較高的厚度和耐高溫性能，真空PVD鍍膜涂層的加入可以有效的改善抗高溫性能，表面硬度和抗i氧化性，同時(shí)表面涂敷的真空PVD鍍膜涂層可以抵抗沖擊金屬液體的沖擊。常見(jiàn)的壓鑄模具涂層有TiAlN，AlCrN和AlTiCrN等。常見(jiàn)的思路是利用一層較硬的真空PVD鍍膜涂層來(lái)抵抗金屬液體帶來(lái)的高溫以及對(duì)模具的沖刷等。