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發布時間:2020-11-16 02:15  
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對于大面積鍍膜,常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1~0.2電子伏。
蒸發源有三種類型。①電阻加熱源:用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發物質電阻加熱源主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。其原理是:將工件置于硼砂(或其他)熔鹽的混合物中,通過高溫熱擴散作用,在工件表面形成一層數微米至數十微米的金屬碳化物覆層。②高頻感應加熱源:用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發物質。③電子束加熱源:適用于蒸發溫度較高的材料,即用電子束轟擊材料使其蒸發。
本實用新型涉及數碼產品指環支架技術領域,特指一種磁能指環支架,包括磁鐵底座與鐵制指環,磁鐵底座與鐵制指環均采用圓形結構設置,磁鐵底座與鐵制指環之間通過磁能吸附方式對應設置。以上就是鍍膜加工廠給大家帶來的確定電鍍光亮劑的優劣的方法,希望能給大家有更多的了解。本實用新型采用這樣的結構設置,磁鐵底座與鐵制指環之間通過磁能吸附方式可實現數碼產品360度無死角使用,同時采用吸附原理,便于磁鐵底座與鐵制指環的分離和隱藏,不使用的情況下也不影響美觀。
更具體而言,所述外觀鋁件3外圓上均勻設有若干凹槽。通過凹槽便于取下套在外觀鋁件3上的鐵制指環4,且其整體外形看上去更加美觀。
[0022]以上為本實用新型較佳的實施方式,本實用新型所屬領域的技術人員還能對上述實施方式進行變更和修改。對于大面積鍍膜,常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。因此,本實用新型并不局限于上述的具體實施方式,凡是本領域技術人員在本實用新型的基礎上所作的任何顯而易見的改進、替換或變型均屬于本實用新型的保護范圍。