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化學沉鎳工序中退鍍是什么意思？

現在很多工件都會選擇化學沉鎳，那么我們知道在化學沉鎳施鍍結束之后必須采取清洗和干燥，目的在于除凈工件表面殘留的化學鍍液、保持鍍層具有良好的外觀，并且防止在工件表面形成“腐蝕電池”條件，保證鍍層的耐蝕性。除此之外，為了不同的目的和技術要求還可能進行許多種后續處理，其中包括退鍍。

退鍍是指對不合格化學沉鎳鍍層的退除。化學沉鎳層的退除要比電鍍鎳層的退鍍困難得多，退鍍液特別是對于高耐蝕化學沉鎳層更是如此。不合格的化學沉鎳鍍層應在熱處理前就進行退除，否則鍍層鈍化后退鍍更困難。退鍍蕞好在化學沉鎳后，發現產品有瑕疵就馬上退鍍，此時效果蕞好。同時要求退鍍液必須對基體無腐蝕，其次鍍層厚度，退鍍速度，退鍍成本等因素都要考慮。化學鎳退鍍方法主要有化學退鍍法和電解退鍍法兩種，具體的選擇取決于工件的不同。

化學沉鎳的工藝流程有哪些

化學沉鎳是一種常用的電鍍方式，那么化學沉鎳的具體流程是什么呢？漢銘表面處理來為您解答：

首先化學沉鎳鍍液得成分有: NiSO4?7H2O：20g/l，NaH2PO2?H2O：30g/l，?2H2O：10g/l，NH4Cl：30g/l；pH值：8.5～9.5（濃氨水調節）。

化學沉鎳的工藝流程為：

除油，活化，空鍍，上砂，去浮砂，加厚鍍，鍍表面層

一般化學沉鎳溶液分為酸性和堿性兩種，在酸性鍍液中生成的是高磷非磁性鍍層（酸性條件下的化學沉鎳溫度一般為85～95℃），而在堿性鍍液中生成的是低磷磁性鍍層，適合用于吸波材料。堿性化學沉鎳溶液具有非常好的均鍍能力，鍍層結合力高。

工藝流程中除油一般用含有qing氧化鈉、碳酸鈉、磷酸三鈉的溶液中電解處理；活化一般在鹽酸或硫酸中進行，對于不銹鋼基體，還要作預鍍處理。

化學沉鎳中出現有zhen孔現象是什么原因引起的

漢銘化學沉鎳廠家為大家分享在化學沉鎳中出現有zhen孔現象是什么原因引起的：

在光亮化學沉鎳和光亮酸性鍍銅中，蕞為常見。通常出現在以下三種情況: 　　

(1)化學沉鎳中氫演化形成的為圓錐孔。 　　

(2)由化學沉鎳的油和有機雜質引起的細小zhen孔、不規則。 　　

(3)化學沉鎳的母材小凹點造成的是不規則的，如飛趾等，難以識別，只能通過檢測和觀察化學沉鎳母材表面來確定。

鎳腐蝕對可焊性的影響

鎳層作為金層和銅層之間的過渡層，起到阻擋銅和金相互擴散的作用，同時其還是焊接的基底層。鎳層過薄會削弱其阻擋銅金原子之間的擴散作用，同時導致有效焊接的厚度變薄，無法形成良好的焊點。對于化學鍍鎳金工藝來說，其本質是一個置換反應，由于置換反應獲得的金層為疏松多孔結構，且金原子體積大，在浸金反應后期，雖然金層厚度不再增加，但金原子間隙下的鎳層仍然可以繼續被置換。鎳過度置換產生的鎳離子往往積累在金層下面，鎳離子被氧化后就生成黑色氧化物，這也就是所謂的黑盤（鎳腐蝕）。鎳氧化物的浸潤能力很差，因而黑盤對鎳金層的可焊性會產生致命影響。