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銦錠因其光滲透性和導電性強，主要用于生產ITO 靶材（用于生產液晶顯示器和平板屏幕），這一用途是銦錠的主要消費領域，占全球銦消費量的70%。其次的幾個消費領域分別是：電子半導體領域，占全球消費量的12%；焊料和合金領域占12%；研究行業占6%。另，因為其較軟的性質在某些需填充金屬的行業上也用于壓縫。如：較高溫度下的真空縫隙填充材料。

高純氯化銦：無色或白色粉末，主要用于制熒光粉、Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體、低壓納燈、錳干電池無gong負極、（ 鋅）防腐添加劑、ITO透明電池等。銦是鍺晶體管中的摻雜元素，在PNP鍺晶體管生產中使用銦的數量z大。每年銦在新用途方面的用量還以10%-20%的速度增加。因為其較軟的性質在某些需填充金屬的行業上也用于壓縫。如：較高溫度下的真空縫隙填充材料。

銦提取工藝

目前，世界上銦生產的主要提取工藝和主流提取工藝技術就是萃取-電解法。

其原則工藝流程是：含銦原料→富集→化學溶解→凈化→萃取→反萃取→鋅（鋁）置換→海綿銦→電解精煉→精銦。

世界上銦產量的90%來自鉛鋅冶煉廠的副產物。銦的冶煉回收方法主要是從銅、鉛、鋅的冶煉浮渣、熔渣及陽極泥中通過富集加以回收。根據回收原料的來源及含銦量的差別，應用不同的提取工藝，達到z佳配置和z大收益。常用的工藝技術有氧化造渣、金屬置換、電解富集、酸浸萃取、萃取電解、離子交換、電解精煉等。當前較為廣泛應用的是溶劑萃取法，它是一種高gao效分離提取工藝。離子交換法用于銦的回收，還未見工業化的報導。在從較難揮發的錫和銅內分離銦的過程中，銦多數集中在煙道灰和浮渣內。在揮發性的鋅和鎘中分離時，銦則富集于爐渣及濾渣內。

對于銦的生產企業需要對可能存在銦及其化合物污染的工程項目，銦錠生產商做好有害因素的源頭治理工作，在銦及其化合物作業環境中，需要安裝有效的通風設施，生產過程中盡可能封閉粉塵來源，保證工作場所銦及其化合物空氣濃度標準符合國家職業衛生標準。勞動者在工作場所必要時需要戴防塵口罩，遵守操作規程。從事銦及其化合物作業的人員應當定期接受職業健康檢查，對存在職業禁忌者及時調離銦及其化合物作業場所。