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簡述

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜開發(fā)成功

此外，此種技術(shù)和設(shè)備除上述 以外的諸多優(yōu)點(diǎn)為:1.從開、收卷裝置處的大氣壓環(huán)境至真空鍍金屬爐中的高真空狀態(tài)，其間共經(jīng)6個(gè)階段，是逐漸提高其真空度的，每一階段中的某種程序的真空度差異并不影響后的真空度。因此，采用此種設(shè)備能使被蒸鍍條狀材在鍍金屬室中作連續(xù)運(yùn)行。其運(yùn)行速率可以調(diào)節(jié)。

真空鍍膜優(yōu)點(diǎn)

4.此種設(shè)備能使金屬蒸鍍層表面質(zhì)量，所鍍覆的金屬層無和濺潑痕跡等疵病。這是由于電磁功率的增加以及氧化膜和碳質(zhì)被塔禍壁本身清除干凈，使熔融鋁的表面清潔無瑕所致。