激光脈沖沉積設備價格常用指南「在線咨詢」

脈沖激光沉積細節介紹

很多復雜氧化物薄膜在相對高的氧氣壓力（>100 Torr）下冷卻是有利的。所有Pioneer 系統設計的工作壓力范圍。從它們的額定初始壓力到大氣壓力。這也有益于納米粒子的生成。

Pioneer PLD 系統的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的均勻性，同時避免使用復雜而昂貴的光學部件。淺的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點，導致密度均勻性的損失。

為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵流體，消除油的回流對薄膜質量的影響，所有Pioneer 系統的標準配置都采用無油真空系統。

我們的研究表明靶和基片的距離是獲得較佳薄膜質量的關鍵參數。Pioneer 系統采用可變的靶和基片的距離，對沉積條件進行較大的控制。

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脈沖激光沉積發展前景

由脈沖激光沉積技術的原理、特點可知，它是一種極具發展潛力的薄膜制備技術。主要用途：用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。隨著輔助設備和工藝的進一步優化，將在半導體薄膜、超晶格、超導、生物涂層等功能薄膜的制備方面發揮重要的作用；并能加快薄膜生長機理的研究和提高薄膜的應用水平，加速材料科學和凝聚態物理學的研究進程。同時也為新型薄膜的制備提供了一種行之有效的方法。

沈陽鵬程真空技術有限責任公司本著多年脈沖激光沉積行業經驗，專注脈沖激光沉積研發定制與生產，先進的脈沖激光沉積生產設備和技術，建立了嚴格的產品生產體系，想要更多的了解，歡迎咨詢圖片上的熱線電話！！！