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發(fā)布時(shí)間:2021-08-17 17:43  
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干膜盡可能平整且厚度均勻。要求干膜應(yīng)具有很好的柔韌性、良好的塑性、流動(dòng)性與粘結(jié)性以確保達(dá)到無間隙貼膜。
顯影要充分。顯影是與下道工序直接相連的重要工序,其質(zhì)量的好與壞是整個(gè)圖形轉(zhuǎn)移成功與否的重要標(biāo)志。
首先是預(yù)處理,蝕刻材料要處理干凈,絲印油墨時(shí)要保證油墨厚度適中,一般在0.12-0.14mm,當(dāng)然看每個(gè)工廠的實(shí)際情況與工藝。接下來是烘烤油墨,要控制溫度和烘烤速度,一般來說烘烤溫度控制在90℃±5℃。
曝光后要檢測(cè)曝光后的圖形質(zhì)量,若有遺漏需要進(jìn)行人工補(bǔ)油補(bǔ)點(diǎn)。補(bǔ)油后需要進(jìn)行第二次烘烤。
之后就進(jìn)行顯影,確定圖形的清洗度,顯影過程中主要是控制藥的濃度,溫度,速度以及完成后的烘干溫度。
曝光顯影工藝就是指利用物質(zhì)這一特點(diǎn),由高精度紫外平行光源通過掩膜版對(duì)涂有特定吸收波長的油墨進(jìn)行紫外光照射,然后通過化學(xué)去除多余涂層,從而達(dá)到圖形轉(zhuǎn)印的過程稱之為曝光顯影工藝。
曝光顯影技術(shù)優(yōu)勢(shì):
1、解決3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷難題;
2、圖形轉(zhuǎn)印技術(shù)單層、多層套印精度高;
3、霧化噴涂確保厚度均一性,提高致密性,降低油墨厚度;
4、采用圖形轉(zhuǎn)印技術(shù),良率較高;
5、4-6寸蓋板單制程產(chǎn)能優(yōu)勢(shì)明顯;
6、較薄的油墨利于貼合,提高制程整體良率。
當(dāng)需要較深的蝕刻要求時(shí)材料的因素并不重要(材質(zhì)質(zhì)量大差例外),同時(shí)為了生產(chǎn)效率的需要,要通過對(duì)蝕刻溶液濃度、配方組成的調(diào)整及蝕刻物理參數(shù)的調(diào)整來提高蝕刻速度,即便是這樣也不需要"越快越好的蝕刻速度。因?yàn)樘斓乃俣葧?huì)使溶液成分變化太快,會(huì)反過來影響到物理參數(shù)的控制難度,同時(shí)也會(huì)使被蝕刻的金屬表面溶解速度不能一致,使蝕刻后的表面平滑度降低。