PVD離子鍍膜機(jī)廠家價(jià)格「至成真空科技」

PVD真空鍍膜設(shè)備蒸發(fā)系統(tǒng)工作方式

PVD真空鍍膜設(shè)備蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分，PVD鍍膜機(jī)的成膜裝置很多的，PVD鍍膜有電阻加熱、射頻濺射、離子鍍等多種方式。PVD鍍膜電阻蒸發(fā)根據(jù)其結(jié)構(gòu)和工作原理是目前為止應(yīng)用多的，PVD鍍膜廣泛的蒸發(fā)方式，PVD鍍膜也是應(yīng)用時(shí)間長的蒸發(fā)方式。

下面介紹PVD鍍膜電阻加熱和電子槍蒸發(fā)的方式：

PVD鍍膜將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個(gè)電極中間，再熱傳導(dǎo)給PVD鍍膜材料，當(dāng)鎢舟的熱量高于PVD鍍膜材料熔點(diǎn)的時(shí)候，材料就升華或者蒸發(fā)了，PVD鍍膜由于操作方便，結(jié)構(gòu)簡單，成本低廉。PVD鍍膜電子槍蒸發(fā)是到目前為止應(yīng)用多的一種蒸發(fā)方式，PVD鍍膜可以蒸發(fā)任何一種PVD鍍膜料。

將鍍膜材料放在坩堝里面，PVD鍍膜將蒸發(fā)源制作成燈絲形狀，PVD鍍膜由于燈絲的材料是鎢，形成了一股電子束，PVD鍍膜由于電子束溫度非常高，PVD鍍膜可以熔化任何鍍膜藥材凝結(jié)下來。

至成真空十多年來專業(yè)從事各種真空鍍膜應(yīng)用設(shè)備制造，多年來致力于研發(fā)和生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)，以新技術(shù)不斷制造出滿足市場需要的真空電鍍設(shè)備，為客戶提供定制化的工藝解決方案和機(jī)器。

真空鍍膜的膜層厚度如何測量？

在使用真空鍍膜機(jī)鍍膜之后，為了需要可能會(huì)要測量膜層的厚度，測量膜層的厚度用什么方法呢?

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅(qū)動(dòng)擋板，保持蒸發(fā)速率。

只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個(gè)的鍍膜過程。但是(QCM)的精準(zhǔn)度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。

此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時(shí)，它會(huì)變得對溫度非常敏感。在長時(shí)間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域，從而對膜層造成重大誤差。

光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的優(yōu)選監(jiān)控方式，這是因?yàn)樗梢愿珳?zhǔn)地控制膜層厚度(如果運(yùn)用得當(dāng))。

精準(zhǔn)度的改進(jìn)源于很多因素，但根本的原因是對光學(xué)厚度的監(jiān)控。

光學(xué)真空鍍膜機(jī)薄膜根據(jù)其用途分類、特性與應(yīng)用可分為哪些膜

光學(xué)真空鍍膜機(jī)薄膜根據(jù)其用途分類、特性與應(yīng)用可分為：反射膜、增透膜/減反射膜、濾光片、偏光片/偏光膜、補(bǔ)償膜/相位差板、配向膜、擴(kuò)散膜/片、增亮膜/棱鏡片/聚光片、遮光膜/黑白膠等。相關(guān)衍生的種類有光學(xué)級保護(hù)膜、窗膜等。

光學(xué)真空鍍膜機(jī)光學(xué)薄膜的特點(diǎn)是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì)，也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因?yàn)椋褐苽鋾r(shí)，薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料，起表面和界面是粗糙的，從而導(dǎo)致光束的漫反射;膜層之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面;由于膜層的生長、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因，形成了薄膜的各種向異性;膜層具有復(fù)雜的時(shí)間效應(yīng)。

真空PVD鍍膜涂層工藝?yán)鋮s如何進(jìn)行？

1.高閥關(guān)閉，真空計(jì)關(guān)閉，真空室與泵組隔離；

2.當(dāng)操作人員按下N2vent按鈕，預(yù)先接好的氮?dú)鈺?huì)通過N2充氣閥充入真空室，當(dāng)真空室內(nèi)的壓力達(dá)到壓力開關(guān)預(yù)設(shè)的壓力時(shí)，N2充氣閥關(guān)閉。

3.真空室內(nèi)充入了大量N2，真空度很低，更加有利于熱傳導(dǎo)，所以降溫速度比不充冷卻N2時(shí)快很多，縮短冷卻時(shí)間，提高生產(chǎn)效率，實(shí)際冷卻時(shí)間可由原來的90分鐘縮短為60分鐘。

4.由于氦氣的熱傳導(dǎo)率更高，所以充入冷卻氦氣比氮?dú)饨禍厮俣雀欤浅杀疽哺摺?

5.國外設(shè)備快速冷卻程序，通過冷卻氣體的循環(huán)冷卻，能縮短冷卻時(shí)間50%。

為什么要進(jìn)行壓升率測試？

真空環(huán)境條件是影響終涂層質(zhì)量重要的因素。鍍膜前，必須進(jìn)行壓升率測試，以保證真空環(huán)境條件滿足鍍膜標(biāo)準(zhǔn)。

怎樣進(jìn)行壓升率測試？

在我們的自動(dòng)鍍膜工藝中，壓升率測試是自動(dòng)進(jìn)行。當(dāng)真空室內(nèi)真空度達(dá)到工藝設(shè)定的本底真空后，進(jìn)入壓升率測試步驟。

系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)關(guān)閉高閥，此時(shí)真空室與泵組隔離，真空室內(nèi)壓力會(huì)升高。在一定時(shí)間內(nèi)（一般1分鐘），如果壓力不超過設(shè)定的報(bào)警值，系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)進(jìn)行下一步程序，進(jìn)入鍍膜步驟。如果壓力超過設(shè)定的報(bào)警值，系統(tǒng)會(huì)有報(bào)警提示，此時(shí)，操作人員應(yīng)按照操作流程，再次進(jìn)行抽真空和加熱烘烤，然后重復(fù)進(jìn)行壓升率測試，直至壓升率滿足鍍膜條件。