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發布時間：2021-09-20 20:42
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微弧氧化
在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜,至今還沒有一個合理的模型能全描述陶瓷層的形成。微弧氧化工藝將工作區域由普通陽極氧化的法拉第區域引入到高壓放電區域，克服了硬質陽極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化槽液微弧氧化主要針對鋁、鎂、鈦、等閥金屬（閥金屬是指在電解液中起到電解閥門作用的金屬）。微弧氧化膜層與基體結合牢固，結構致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。
微弧氧化處理形成的陶瓷氧化膜，與基體呈冶金結合，膜層致密，具有良好的耐磨、耐蝕性能。 氧化膜的硬度一般能達到600-1500HV(膜層厚度20-50μm），耐磨性能優于硬質陽極化膜及電鍍硬鉻。封孔后耐鹽霧試驗水平可達2000小時以上。該氧化膜還具有良好的絕緣性，耐500V以上的高壓沖擊，且有效防止電偶腐蝕；氧化膜還具有良好的隔熱特性，是鋁合金活塞的首要選擇。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化圖片、微弧氧化技術設備。
微弧氧化處理后形成陶瓷層表面顏色只有黑白兩色。嚴重制約了而上釉工藝可以在金屬表面涂上色彩并經過高溫燒結，形成耐磨，結合力好的表面處理。由于微弧氧化是在陽極氧化膜被電ji穿的基礎上進行的，所以在探討微弧氧化機理時我們要結合電ji穿理論的研究和發展，從而闡述微弧氧化基本原理。但是普通的低溫釉工藝，燒結溫度高達900度，鋁鎂金屬的熔點是600多度，因此嚴重制約了微弧氧化后處理的發展，對終端消費品外殼的客戶來說，彩色是必備的選擇。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術、微弧氧化設備
