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發布時間：2020-12-05 14:26
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鍍膜是用物理或化學的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。在可見光和紅外線波段范圍內，大多數金屬的反射率都可達到78%~98%，但不可高于98%。無論是對于CO2激光，采用銅、鉬、硅、鍺等來制作反射鏡，采用鍺、chen化jia、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學元件材料，還是對于YAG激光采用普通光學玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學元件材料，都不能達到全反射鏡的99%以上要求。 次數用完API KEY 超過次數限制
隨著高科技及新興工業發展，物理氣相沉積技術出現了不少新的先進的亮點，如多弧離子鍍與磁控濺射兼容技術，大型矩形長弧靶和濺射靶，非平衡磁控濺射靶，孿生靶技術，帶狀泡沫多弧沉積卷繞鍍層技術，條狀纖維織物卷繞鍍層技術等，使用的鍍層成套設備，向計算機全自動，大型化工業規模方向發展。第二節真空蒸鍍(一)真空蒸鍍原理(1)真空蒸鍍是在真空條件下，將鍍料加熱并蒸發，使大量的原子、分子氣化并離開液體鍍料或離開固體鍍料表面(升華)。 次數用完API KEY 超過次數限制
膜強度的不良（膜弱）主要表現為：①擦拭或用專用膠帶拉撕，產生成片脫落；
②擦拭或用專用膠帶拉撕，產生點狀脫落；
③水煮15分鐘后用專用膠帶拉撕產生點狀或片狀脫落；
④用專用橡皮頭、1Kg力摩擦40次，有道子產生；
⑤膜層擦拭或未擦拭出現龜裂紋、網狀細道子。
改善思路：基片與膜層的結合是首要考慮的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜應力。膜強度不良的產生原因及對策：①基片與膜層的結合。一般情況，在減反膜中，這是膜弱的主要原因。由于基片表面在光學冷加工及清洗過程中不可避免地會有一些有害雜質附著在表面上，而基片的表面由于光學冷加工的作用，總有一些破壞層，深入在破壞層的雜質 次數用完API KEY 超過次數限制
