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廢氣處理工藝流程

1.惡臭物質能否被裂解，取決于其化學鍵鍵能是否比所提供的UV 光子的能量要低。

2.裂解時間是否足夠1S，氧化反應的時間是否達到5-8S;

3.提供的 UV 光子總功率不夠或者含氧量不足，會因為裂解或氧化不完全而生成一些中間副產物，從而影響凈化效率。對于高濃度大分子的有機惡臭物質體現得較為明顯。

4.UV 光解凈化的長期穩定、，需要反應溫度<60℃，粉塵量<100mg/m 3 ，相對濕度<97%。

5.廢氣物質中若某種特殊化學元素的含有量過高 (如 Cl、 F 等) ，也會導致強化劑臭氧的生成量大大降低，終影響總體的凈化效果。

光催化設備，又稱光催化氧化設備，常用于光降解及光化學危廢處理。

光催化設備主要包含兩個重要的部分，一是光源，二是光催化劑。其具體的作用機理是光源發出的光（通常為紫外光）照射到光催化劑（常為半導體材料，如二氧化鈦等）上使電子發生躍遷，通過與吸附氧作用生成具有較強氧化性的活性氧，從而氧化清除表面有機物或者細菌（病毒）。

利用高臭氧分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧，使呈游離狀態的污染物分子與臭氧氧化結合成小分子無害或低害的化合物。如CO2、H2O等。UV O2→O- O*(活性氧)O O2→O3(臭氧)。 4.3、利用的催化劑進行氧化還原反應；運用高能UV紫外線光束、臭氧及催化劑對惡臭氣體進行協同分解氧化反應，使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，徹底達到脫臭及殺滅細菌的目的。

然后廢氣會被氧化，因為設備中的臭氧可以有效的氧化空氣中的有機廢氣和氣味較濃的氣體。再然后被處理之后的廢氣有來到了光催化區，在這里通過高能紫外線照射對氣體中分子結構進行裂解，生產對大氣無污染的大氣成分。后被處理過后無污染的廢氣會通過引風機進入煙沖，從而排出大氣。如果廢氣中有特定污染成分，可在設備前設置一個洗滌塔，進行一級處理達到輔助效果。