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發(fā)布時間：2021-01-14 05:43
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廢氣處理工藝流程
1.惡臭物質(zhì)能否被裂解，取決于其化學(xué)鍵鍵能是否比所提供的UV 光子的能量要低。
2.裂解時間是否足夠1S，氧化反應(yīng)的時間是否達到5-8S;
3.提供的 UV 光子總功率不夠或者含氧量不足，會因為裂解或氧化不完全而生成一些中間副產(chǎn)物，從而影響凈化效率。對于高濃度大分子的有機惡臭物質(zhì)體現(xiàn)得較為明顯。
4.UV 光解凈化的長期穩(wěn)定、，需要反應(yīng)溫度<60℃，粉塵量<100mg/m 3 ，相對濕度<97%。
5.廢氣物質(zhì)中若某種特殊化學(xué)元素的含有量過高 (如 Cl、 F 等) ，也會導(dǎo)致強化劑臭氧的生成量大大降低，終影響總體的凈化效果。
光催化設(shè)備，又稱光催化氧化設(shè)備，常用于光降解及光化學(xué)危廢處理。
光催化設(shè)備主要包含兩個重要的部分，一是光源，二是光催化劑。其具體的作用機理是光源發(fā)出的光（通常為紫外光）照射到光催化劑（常為半導(dǎo)體材料，如二氧化鈦等）上使電子發(fā)生躍遷，通過與吸附氧作用生成具有較強氧化性的活性氧，從而氧化清除表面有機物或者細菌（病毒）。
利用高臭氧分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧，使呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子無害或低害的化合物。如CO2、H2O等。UV O2→O- O*(活性氧)O O2→O3(臭氧)。 4.3、利用的催化劑進行氧化還原反應(yīng)；運用高能UV紫外線光束、臭氧及催化劑對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，徹底達到脫臭及殺滅細菌的目的。
然后廢氣會被氧化，因為設(shè)備中的臭氧可以有效的氧化空氣中的有機廢氣和氣味較濃的氣體。再然后被處理之后的廢氣有來到了光催化區(qū)，在這里通過高能紫外線照射對氣體中分子結(jié)構(gòu)進行裂解，生產(chǎn)對大氣無污染的大氣成分。后被處理過后無污染的廢氣會通過引風(fēng)機進入煙沖，從而排出大氣。如果廢氣中有特定污染成分，可在設(shè)備前設(shè)置一個洗滌塔，進行一級處理達到輔助效果。
