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真空鍍膜機真空器件的常用檢漏方法

真空鍍膜機真空器件的常用檢漏方法 依據電真空器材的結構特色及丈量精度要求，常用的有兩種檢漏辦法，即氦罩法和噴吹法（這兩種檢漏辦法具體介紹可見：氦罩法和噴吹法的氦質譜檢漏儀檢漏常見辦法）。檢漏時，先用氦罩法進行總漏率的測定，當總漏率超出答應值后再用噴吹法進行漏孔的認位。 氦罩法是被檢件與檢漏儀銜接抽真空到達檢漏狀況后，用一個充溢氦氣的查驗罩，把被檢件全體或部分的表面面包圍起來，如圖4所示。查驗罩充氦時先將罩內空氣排出再充氦，以確保罩內氦濃度盡可能挨近100百分之，被檢件上任何地方有走漏。 檢漏儀都會有漏率值改變，顯示出漏率值。氦罩時刻也要繼續3~5倍檢漏儀呼應時刻。ASM192T2氦質譜檢漏儀反應時刻小于0.5s,因而氦罩時刻30s即可。氦罩法可方便地測定被檢件總漏率，不會漏掉任何一處漏點，但不能確認漏孔方位。 噴吹法是將被檢件與儀器的真空體系相連，對被檢件抽真空后用噴槍向漏孔處吹噴氦氣。當有漏孔存在時，氦氣就經過漏孔進入質譜儀被檢測出，噴吹法彌補了氦罩法不能定位的缺點。

磁控濺射鍍膜技術介紹

磁控濺射鍍膜技術介紹 磁控濺射鍍膜設備是一種具有結構簡單、電器控制穩定性好等優點的真空鍍膜機，其工藝技術的選擇對薄膜的性能具有非常重要的影響。 磁控濺射鍍膜技術在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程如下： 陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽本底真空→plasma清洗→加熱→通氣→預濺射→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片→表面檢驗→性能測試→包裝、入庫。 以上工藝技術就是以磁控濺射鍍膜設備為基礎，選用合適的靶材和濺射工藝，制備出超硬的耐磨鍍層，可以實現材料的高硬度、高耐磨、高耐劃傷特性；同時，利用NCVM光學膜結構設計，設計出各層不同折射率材料，可以調配出任意顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強度高，具備外觀件時尚、美觀的特點，而且不會屏蔽電磁信號。 磁控濺射鍍膜設備配合NCVM工藝，能夠實現對于陶瓷電子消費品的表面裝飾處理，在保證陶瓷強度和硬度的同時，也能夠提升其美觀性和藝術性，更好地滿足消費者的個性化需求。NCVM鍍膜主要是在真空條件下，通過相應的物理化學手段來對金屬材料進行轉換，以粒子的方式吸附在材料表面，形成鍍膜層，相比較普通真空電鍍，NCVM的技術含量更高，加工流程也更加復雜。 磁控濺射鍍超硬膜，結合NCVM光學鍍膜技術，其鍍層具有優異的耐磨性、耐蝕性、鍍層厚度均勻性以及致密度高等特點，已在電子產品中獲得大量應用。隨著電子工業的迅猛發展，NCVM鍍膜憑借本身優越的性能，在真空電鍍技術領域脫穎而出，成為了電子消費品生產中的一項核心技術，在保證良好處理效果的同時，也能夠消除電鍍過程中重金屬元素對于人體的危害，對其環境污染問題進行解決。

真空鍍膜機的工作原理

真空鍍膜機的工作原理 在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素。因此，當評價某薄膜樣品的性能時，需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形，這往往需要進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：首先，不同次生長的樣品，儀器的狀態不同，以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，真空鍍膜實驗裝取樣品需要重新進行真空的獲得，非常耗時。增加了生產和檢測的成本。 因此，提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統，本系統由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發鍍膜與手套箱組合，實現蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環境氛圍的系統中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環境中不穩定因素影響，保障了、大面積有機光電器件和電路的制備。 多功能磁控濺射鍍膜系統主要用途：用于制備各種金屬膜、半導體膜、介質膜、磁控膜、光學膜、超導膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜。

鍍膜設備該選擇哪種主泵配置

鍍膜設備該選擇哪種主泵配置 真空系統在鍍膜設備行業中可謂是非常重要，是其不缺缺少的設備之一。目前常用的真空系統結構形式一般是由主泵及前級泵串聯，加上閥門管道和真空測量儀表組成。而所選的主泵基本上分為兩種形式，分別為有油真空和無油真空系統。 那么什么是有油真空系統和無油真空系統呢？下面小編來給大家介紹一下： 有油真空系統基本是以油擴散泵為主泵，前級泵采用機械泵或者羅茨泵。我們知道，油擴散泵的壓力方位比較大，同時抽氣速率非常的高，能夠達到每秒十幾萬升。其工作能力在業內是數一數二的，這也得益于其具有良好的性能。從優點上來講，有油真空系統工作可靠，沒有振動，沒有噪音，壽命長，維護建檔透支費用低，是很多廠家都喜歡使用的。但是其缺點也非常的明顯，就是會形成污染源，大規格泵在這方面更加的嚴重。 無油真空西永是使用分子泵和低溫泵作為主泵的，其特點主要集中在能夠連續大量抽氣，可以獲得清潔無油的超高真空。并且該系統啟動時間快，停泵時間短。但是該系統抽重氣體比抽輕氣體快，對水蒸氣類型的的抽速比較慢，當氣體大量經過泵的時候，抽速就會下降的很快。 這兩種真空鍍膜設備各有各的優點和缺點，使用者應該考慮自己的需求來進行選購。