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              發(fā)布時間:2021-01-10 12:12  

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              原來磁場強(qiáng)弱雖不好進(jìn)行控制,但同時工件也在同時運(yùn)轉(zhuǎn),且是靶材原子多次沉積此案結(jié)束鍍膜工序,在一段時間內(nèi)雖然某些部位厚,某些部位薄,但另一個時間內(nèi),磁場強(qiáng)的作用下在原來薄的部位沉積上厚的,在厚的部位沉積上薄的,如此多次,整個膜層成膜后,均勻性還是比較不錯的。

              亞氣的送氣均勻性也會對膜層均勻性產(chǎn)生影響,其原理實(shí)際上和真空度差不多,因為亞氣的進(jìn)入,真空室內(nèi)壓強(qiáng)會產(chǎn)生變化,均勻的壓強(qiáng)大小可以控制成磁控濺射真空鍍膜機(jī)膜厚度的均勻性。


              真空電鍍設(shè)備對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力,真空電鍍設(shè)備熱膨脹系數(shù)相差小,不起反應(yīng),流平性能好。

              真空電鍍設(shè)備施涂性能良好。真空電鍍設(shè)備流平性能良好,有適當(dāng)?shù)酿ざ取⒐袒瘯r間短。真空電鍍設(shè)備與鍍膜層要有良好的接觸性能;真空電鍍設(shè)備與底涂層要有一定的相溶性;真空電鍍設(shè)備成膜性能與施涂性能優(yōu)良;真空電鍍設(shè)備具有適當(dāng)?shù)臋C(jī)械強(qiáng)度;真空電鍍設(shè)備防潮、抗溶劑、耐真空電鍍設(shè)備腐蝕性能好。抗老化性能強(qiáng)。



              真空電鍍主要包括:真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是采用在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層,同時具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn),但是價格也較高,可以進(jìn)行操作的金屬類型較少,一般用來作較好產(chǎn)品的功能性鍍層,例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。常見的塑膠產(chǎn)品電鍍工藝有兩種:水電鍍和真空離子鍍.


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