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ParyleneC和ParyleneN的薄膜擊穿電壓

Parylene的特征之一是它們可以形成極薄的膜層。ParyleneN薄膜和C薄膜的直流擊穿電壓被確定與高聚物厚度有肯定的關(guān)系。

Parylene是一種具有性能的敷形涂層材料，問(wèn)世后首先在電子領(lǐng)域得到了應(yīng)用。1972年列入美軍標(biāo)46058C許可作為印刷電路板的敷形涂層材料，涂層厚度為0.0005-0.002英寸。

精密模具硬質(zhì)涂層設(shè)備真空鍍膜機(jī)是工業(yè)化生產(chǎn)理想設(shè)備。其大特點(diǎn)是能對(duì)各種金屬及非金屬進(jìn)行表面鍍膜，可鍍制Au、Cu、Al、Cr、Ni，不銹鋼等高溫、低溫耐蝕膜，裝飾保護(hù)膜，又可鍍制TiC等硬膜，在機(jī)械、輕工、電子、等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。膜層表面光滑致密，無(wú)公害，提高硬度、耐磨損、防腐蝕、美化裝飾，

可通過(guò)鹽霧測(cè)試、冷熱沖擊測(cè)試、酒精測(cè)試、人體行業(yè)測(cè)試、RCA測(cè)試、鉛筆硬度測(cè)試、折彎測(cè)試、百格測(cè)試等

該設(shè)備離化率高、成膜速率快、低溫等特性，可根據(jù)用戶要求設(shè)計(jì)制造非標(biāo)設(shè)備

電場(chǎng)對(duì)離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和離子對(duì)基片的濺射清洗作用，使膜層附著強(qiáng)度大大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點(diǎn)，并有很好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。

真空鍍膜加工技能是一種新穎的資料組成與加工的新技能，是外表工程技能范疇的主要組成部分。真空鍍膜加工技能是使用物理、化學(xué)手法將固體外表涂復(fù)一層特殊功能的鍍膜，然后使固體外表具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝修等許多優(yōu)于固體資料本身的優(yōu)勝功能，到達(dá)提高商品質(zhì)量、延伸商品壽數(shù)、節(jié)約能源和取得明顯技能經(jīng)濟(jì)效益的效果。