蘇州中頻離子鍍膜機廠家歡迎來電「至成真空科技」

真空鍍膜機磁控濺射主要工藝流程：

1、基片清洗，主要是用蒸汽清洗，隨后用乙醇浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；

2、抽真空，真空須控制在2×104Pa以上，以保證薄膜的純度；

3、加熱，為了除去基片表面水分，提高膜與基片的結合力，需要對基片進行加熱，溫度一般選擇在150℃~200℃之間；

4、Ar氣分壓，一般選擇在0.01~1Pa范圍內，以滿足輝光放電的氣壓條件；

5、預濺射，預濺射是通過離子轟擊以除去靶材表面氧化膜，以免影響薄膜質量；

6、濺射，Ar氣電離后形成的正離子在正交的磁場和電場的作用下，高速轟擊靶材，使濺射出的靶材粒子到達基片表面沉積成膜；

7、退火，薄膜與基片的熱膨脹系數有差異，結合力小，退火時薄膜與基片原子相互擴散可以有效提高粘著力。

真空鍍膜機磁控濺射鍍膜的特點：薄膜純度高，致密，厚度均勻可控制，工藝重復性比較好，附著力強。

依據濺射源的不同，真空鍍膜機磁控濺射有直流和射頻之分，兩者的主要區別在于氣體放電方式不同，真空鍍膜機射頻磁控濺射利用的是射頻放電，陶瓷產品使用的是射頻磁控濺射鍍。

真空PVD鍍膜涂層工藝冷卻如何進行？

1.高閥關閉，真空計關閉，真空室與泵組隔離；

2.當操作人員按下N2vent按鈕，預先接好的氮氣會通過N2充氣閥充入真空室，當真空室內的壓力達到壓力開關預設的壓力時，N2充氣閥關閉。

3.真空室內充入了大量N2，真空度很低，更加有利于熱傳導，所以降溫速度比不充冷卻N2時快很多，縮短冷卻時間，提高生產效率，實際冷卻時間可由原來的90分鐘縮短為60分鐘。

4.由于氦氣的熱傳導率更高，所以充入冷卻氦氣比氮氣降溫速度更快，但是成本也更高。

5.國外設備快速冷卻程序，通過冷卻氣體的循環冷卻，能縮短冷卻時間50%。

為什么要進行壓升率測試？

真空環境條件是影響終涂層質量重要的因素。鍍膜前，必須進行壓升率測試，以保證真空環境條件滿足鍍膜標準。

怎樣進行壓升率測試？

在我們的自動鍍膜工藝中，壓升率測試是自動進行。當真空室內真空度達到工藝設定的本底真空后，進入壓升率測試步驟。

系統會自動關閉高閥，此時真空室與泵組隔離，真空室內壓力會升高。在一定時間內（一般1分鐘），如果壓力不超過設定的報警值，系統會自動進行下一步程序，進入鍍膜步驟。如果壓力超過設定的報警值，系統會有報警提示，此時，操作人員應按照操作流程，再次進行抽真空和加熱烘烤，然后重復進行壓升率測試，直至壓升率滿足鍍膜條件。

采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層有什么優勢

采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數）、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD膜層能直接鍍在不銹鋼、硬質合金上、鈦合金、陶瓷等表面，對鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進行化學電鍍鉻，然后才適合鍍PVD。PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等）、氮化物膜（TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.1μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm~2μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工。

多弧離子真空鍍膜機鍍膜技術具有以下特點：可以任意安裝使薄膜均勻。外加磁場可以改善電弧放電；使電弧細碎；旋轉速度加快；細化膜層微粒；對帶電粒子產生加速作用。金屬離化率高，有利于薄膜的均勻性和提高附著力，是實現離子鍍膜的良好工藝。一弧多用，既是蒸發源，又是預轟擊凈化源和離化源。