廣州AF鍍膜設(shè)備價格合理

AF真空鍍膜機鍍膜產(chǎn)品特性

AF真空鍍膜機大家可能平時接觸的很少，但是這款型號設(shè)備使用范圍卻很廣泛，比如：手機，平板電腦，顯示器，數(shù)碼產(chǎn)品，電器，衛(wèi)浴和金屬件等鍍膜層都有用到這款設(shè)備，下面至成真空鍍膜小編為大家詳細介紹一下這款設(shè)備的鍍膜產(chǎn)品特性。

1）防污性：防止指紋及油污不容易粘附、輕易擦除；

2）防刮傷：表面滑順，手感舒服，不容易刮花；

3）膜層薄：優(yōu)異光學(xué)性能、不改變原有的紋理；

4）耐磨性：具有真度耐磨性能

AF真空鍍膜機鍍膜產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域：手機、平板、電視、LED等玻璃AR---anti-reflection，中文為抗反射增透，通過提高玻璃（屏幕）透光率，降低玻璃（屏幕）反射率達到增透目的。可選擇材料比較多，一般用高低折射率材料交叉堆疊鍍上去，可采用真空蒸發(fā)鍍也可采用磁控濺射鍍。

真空鍍膜技術(shù)優(yōu)點

鍍層附著性能好：普通真空鍍膜時，在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時，離子高速轟擊工件時，能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生,可見附著多么牢固，膜層均勻，致密。

繞鍍能力強：離子鍍時，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。

因此，這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動半徑范圍內(nèi)的任何地方。

鍍層質(zhì)量好：離子鍍的鍍層組織致密、無孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復(fù)，不致形成金屬瘤。象螺紋一類的零件也能鍍復(fù)，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

AR AF濺射鍍膜機有哪些特點

專門為層數(shù)不多但要求產(chǎn)能大、的光學(xué)薄膜產(chǎn)品鍍膜生產(chǎn)而設(shè)計，適用于玻璃和塑膠光學(xué)鏡片、眼鏡片AF、AS膜的鍍膜生產(chǎn)，也適用于手機視窗(玻璃或塑膠)、塑膠片材彩色光學(xué)膜的制備。旋轉(zhuǎn)陰極裝置與行內(nèi)普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高。可客制化的基板工件架結(jié)構(gòu)定制，給客戶產(chǎn)品擺放達到利用空間。率真空泵組配比與精密的腔體結(jié)構(gòu)使我司抽氣效率達到行業(yè)水平。至成專利RF離子源具有工作范圍廣能量均衡，高離化率，超穩(wěn)定工作效率，低耗能等特點。可生產(chǎn)高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能。低溫成膜，可應(yīng)對各種用途。可依靠負載鎖定裝置保持穩(wěn)定的成膜品質(zhì)。利用自動濺射控制裝置，使濺射工藝實現(xiàn)了自動化。可選“校正板外部調(diào)節(jié)機構(gòu)”。

真空電鍍和水電鍍的區(qū)別

真空電鍍和水電鍍的區(qū)別 1、簡單來說，真空電鍍不過油，其附著力很差，無法過百格TEST，而水電鍍的明顯好于真空電鍍！因此，為保證真空電鍍的附著力，均需后續(xù)進行特殊的噴涂處理,成本當(dāng)然高些。 2、水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種，對于閃銀、魔幻藍、裂紋、水滴銀等五花八門的七彩色就無能為力了。而真空電鍍可以解決七彩色的問題。 3、水電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“六價鉻”，這是非環(huán)保材料。對于“六價鉻”有如下的要求：歐盟：76/769/EEC：禁止使用；94/62/EC：<100ppm；ROHS：<1000ppm 如此嚴(yán)格的要求，國內(nèi)一些廠家已開始嘗試使用“三價鉻”來替代“六價鉻”；而真空電鍍使用的鍍層材質(zhì)廣泛、容易符合環(huán)保要求。