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真空蒸發鍍膜常用的兩種鍍膜方法

常用的兩種鍍膜方法 1，真空蒸發鍍膜，就是把材料用一些特定方式液化后，蒸發結晶于鏡片表面的方式。離子輔助鍍膜是指蒸發過程中，微粒離子化，增加均勻性和附著力和氧化程度的方法。 2，濺射式鍍膜，是利用高電壓電離某些氣體，使之碰撞靶材增加能量，靶材能量到達一定程度噴射出來的鍍膜方式。離子濺射鍍膜是指在濺射能量來源為離子，并且微粒飛翔過程中有明顯離子狀態，并使用磁場控制其飛翔軌跡的鍍膜方式。

磁控鍍膜機的濺射方式有哪些

磁控鍍膜機的濺射方式有哪些 下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。 主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種：(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積. 現在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩定等缺點. 直流濺射發展后期,人們在其表面加上磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現階段廣泛應用的一種濺射方法. 而后又有中頻濺射,提高了陰極發電速率,不易造成放電、靶材等現象. 而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

實驗室中使用小型鍍膜設備

實驗室中使用小型鍍膜設備 我們在實驗室中使用的基本上都是小型的鍍膜設備，下面我們就來了解一下這種設備。 用作真空蒸發鍍的裝置稱為蒸發鍍膜機。蒸發鍍膜機主要由真空室、排氣系統、蒸發系統和電氣設備四部分組成。真空室是放置鍍件、進行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼或碳鋼制作，有水冷卻裝置。 真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。 為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內的鍍件夾具有行星機構或自轉加公轉的運動裝置，如用行星運動方式，這種運動方式成膜均勻性好，臺階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經常采用的運動方式。 排氣系統一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門組成。為了提高抽氣速率，可在機械泵和擴散泵之間加機械增壓泵。因此，排氣系統既要求在較短的時間內獲得低氣壓以保證快速的工作循環，也要求確保在蒸氣鍍膜時迅速排除從蒸發源和工作物表面所產生的氣體。