合金微弧氧化用途按需定制 日照微弧養護技術

微弧氧化槽液

       微弧氧化主要針對鋁、鎂、鈦、等閥金屬（閥金屬是指在電解液中起到電解閥門作用的金屬）。微弧氧化處理可在酸性和堿性電解液中進行，但由于酸性電解液對環境污染性較大現已較少使用。常用堿性電解液體系包括硅酸鹽體系、磷酸鹽體系、鋁酸鹽體系等，在單一或者它們的復合電解液中，增加各種添加劑如鎢酸鹽、鉬酸鹽等，以達到提高膜層生長速率和致密性等或者功能性膜層的目的。微弧氧化處理應根據基體材料的種類選用合適的電解液體系。隨著電壓的遞增，逐步進入火花放電階段，并通過瞬時高溫燒結作用使氧化膜結構發生變化，生成陶瓷膜層。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術

      微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高，耐蝕性強，絕緣性好，膜層與基底金屬結合力強，并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化技術工藝處理能力強，可通過改變工藝參數獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要；也可通過改變或調節電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現不同顏色；微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化圖片、微弧氧化技術設備。還可采用不同的電解液對同一工件進行多次微弧氧化處理，以獲取具有多層不同性質的陶瓷氧化膜層。微弧氧化技術、微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化

微弧氧化電解液組成及工藝條件

　     微弧氧化電解液組成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～3g/L，Na3VO3 1～3g/L；溶液pH為11～13；溫度為20～50℃；該氧化膜還具有良好的絕緣性，耐500V以上的高壓沖擊，且有效防止電偶腐蝕。陰極材料為不銹鋼板；電解方式為先將電壓迅速上升至300V，并保持5～10s，然后將陽極氧化電壓上升至450V，電解5～10min。

       兩步電解法，靠前步：將鋁基工件在200g/L的鉀水玻璃水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化5min；第二步：將經靠前步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化15min。陰極材料為：不銹鋼板；微弧氧化使用范圍由于微弧氧化技術具有工藝過程簡單，占地面積小，處理能力強，生產效率高，適用于大工業生產等優點，因此在機械，汽車，國防，電子，航天航空及建筑民用等工業領域有著極其廣泛的應用前景。溶液溫度為20～度為20～50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術、微弧氧化生產線

微弧氧化為什么要進行預處理

      鋁、鎂、鐵等輕金屬進行微弧氧化處理，需要進行預處理，是因為長期露在空氣中表面易發生氧化，容易形成一層鈍化膜，同時，鋁、鎂、鈦等輕金屬容易吸附一些雜志，為保證微弧氧化后制得陶瓷膜的綜合力學性能，所以給鋁、鎂、鈦等輕金屬進行微弧氧化前進行預處理是很有必要的，是為了保證微弧氧化的效果。自1932年Betz等觀察到電ji穿的現象以來，許多研究者都對電ji穿產生的原因過各種各樣的假設和模型。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術、微弧氧化設備、微弧氧化技術原理、微弧氧化工藝