湖州電鍍機廠家量大從優(yōu)“本信息長期有效”

金屬首飾真空鍍膜機特點：

1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，擴大在陰極表面磁場接近工件表面，以增加濺射原子的電離率。它保留了磁控濺射的細(xì)膩和光澤度增加。2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠，能夠根據(jù)工作電流30A時，優(yōu)化陰極和磁場結(jié)構(gòu)涂層，涂膜和基材界面產(chǎn)生原子擴散，再加上離子束輔助功能沉積。

應(yīng)用行業(yè)：設(shè)備被廣泛應(yīng)用于IPG的時鐘，IPS手表和鐘表，的IP，手機外殼，五金，潔具，刀具，防摩擦的工具，模具和模具等，它可以制備TiN，TiCN涂層，氮化TIALN，TiNbu，TiCrN，氮化鋯，各類鉆石薄膜（DLC）。

真空鍍膜機技術(shù)中的磁控濺射鍍膜優(yōu)勢所在鍍膜技能商品技能特色

據(jù)調(diào)查顯示，對于沉積速率，真空鍍膜機技術(shù)中的磁控濺射鍍膜運用效果很好。有項研究就是對平衡磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜進行各種對比。在這兩者之前，對其成膜的沉積速率的不同作出了實驗研究。

在實驗中，通過是平衡磁控濺射的基礎(chǔ)上增加附加的線圈來控制磁場的變化，形成非平衡磁控濺射條件，這種附加線圈可以改變磁場電流，調(diào)整在整個靶材表面所存在的磁場狀況，從而使其產(chǎn)生的離子密度更高，在研究數(shù)據(jù)中顯示，當(dāng)離子密度提高，成膜的沉積速率也相應(yīng)提高，通過這種調(diào)整電流的方式，可以提高磁控濺射鍍膜時的沉積速率。

把靶材與基底之間的距離改變，當(dāng)距離越大，沉積速率就越低，相反就越高，所以要設(shè)定好靶材與基底的距離，距離大了，離子隨著磁場所產(chǎn)生的電流沉積到基底上的時間就長了，在此時間內(nèi)受到真空鍍膜設(shè)備中的氣體散射的影響就多了，離子密度相對降低，距離短就受影響少，離子密度就高，但不是越短越好的，太短距離就相對減少成膜的面積，所以這個距離需要拿捏好，可以提高磁控濺射鍍膜時的沉積速率。從上述的表述我們可以知道，磁控濺射鍍膜機的技術(shù)還是十分有效的

鍍膜設(shè)備該選擇哪種主泵配置

有油真空系統(tǒng)基本是以油擴散泵為主泵，前級泵采用機械泵或者羅茨泵。我們知道，油擴散泵的壓力方位比較大，同時抽氣速率非常的高，能夠達到每秒十幾萬升。其工作能力在業(yè)內(nèi)是數(shù)一數(shù)二的，這也得益于其具有良好的性能。從優(yōu)點上來講，有油真空系統(tǒng)工作可靠，沒有振動，沒有噪音，壽命長，維護建檔透支費用低，是很多廠家都喜歡使用的。但是其缺點也非常的明顯，就是會形成污染源，大規(guī)格泵在這方面更加的嚴(yán)重。

真空鍍膜機為塑料件鍍膜時抽真空時間長的原因

真空鍍膜機是在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。獲得價廉物美的塑料件表面裝飾的理想設(shè)備，任意底色的塑料經(jīng)車燈鍍膜機后皆可鍍成金屬薄膜、七彩膜、仿金膜等，具有提高產(chǎn)品檔次、外觀更顯華貴作用。廣泛應(yīng)用于塑料（ABS、APS、PU、PS、PP、PVC）、尼龍、陶瓷、樹脂、玻璃等材料的玩具、飾物、工藝品、手機殼、電子產(chǎn)品、燈飾配件、化妝包裝等行業(yè)。