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佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業生產廠家，公司秉承“以質取勝，求真務實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解.

鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響：

本底漏率：本底漏率是指真空室在未加入氣體單位之前本身的單位漏率，漏率越大，進入爐內的雜氣就越多，不管真空度多高，這會嚴重影響鍍膜過程中爐內氣氛的純度和工件表面的潔凈度，會破壞膜層的結合力和膜層顏色的純度。

占空比：占空比是指脈沖偏壓的通斷時間比，占空比越大，同一個周期時間內偏壓輸出時間越長，增大占空比可以提高離子轟擊的能量，有利于提高膜基結合力和膜層致密性和膜層的硬度，但會提高工件的溫升；③熱量可直接加到蒸鍍材料的表面，因而熱效率高，熱傳導和熱輻射的損失少。減小占空比有利于抑制打火損傷和降低工件表面的溫度、輝光放電清洗和離子轟擊的效果。

真空度：真空度是指處于真空狀態下氣體的稀薄程度,用壓強表示,壓強越低,其稀薄程度越大,真空度越高。鍍膜過程中,真空度主要通過控制ya氣流量來改變。

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鍍膜技術也叫薄膜技術，是在真空條件下采用物理或化學方法，使物體表面獲得所需的膜體。PLD缺點：1、在鍍膜過程中，薄膜會被沉積在薄膜上的等離子本管中產生的微粒、氣態原子和分子降低質量，采取一定的措施后也不能完全消除。鍍膜技術是初起源于20世紀30年代，直到70年代后期才得到較大發展的一種技術。目前已被廣泛應用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤滑、光電通訊、電子集成、能源等領域.

電子束蒸發源的優點為：①電子束轟擊熱源的束流密度高，能獲得遠比電阻加熱源更大的能量密度。在陰極弧斑的前方是高密度的金屬等離子體,由于電子向陽極快速移動而使陰極斑點前方出現離子堆積即形成正空間電荷,從而在陰極附近形成極強的電場,導致場電子發射以維持弧光放電。可以使高熔點（可高達3000°C以上）材料蒸發，并且能有較高的蒸發速度；②由于被蒸發材料是置于水冷堆鍋內，因而可避免容器材料的蒸發，以及容器材料與蒸鍍材料之間的反應，這對提高鍍膜的純度極為重要；③熱量可直接加到蒸鍍材料的表面，因而熱，熱傳導和熱輻射的損失少。