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              NR9 3000PY光刻膠廠家服務為先「賽米萊德」

              發布時間:2021-08-31 16:18  

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              光刻膠的重要性

              在北京化工大學理學院院長聶俊眼里,我國雖然已成為世界半導體生產大國,但面板產業整體產業鏈仍較為落后。依照化學反應和顯影原理分類,光刻膠可以分為正性光刻膠和負性光刻膠。目前,上游電子化學品(LCD用光刻膠)幾乎全部依賴進口,必須加快面板產業關鍵核心材料基礎研究與產業化進程,才能支撐我國微電子產業未來發展及國際“地位”的確立。

              “假如我們把光刻機比作一把菜刀,那么光刻膠就好比是要切割的菜,沒有高質量的菜,即使有了鋒利的菜刀,也無法做出一道佳肴。”日前,江蘇博硯電子科技有限公司技術部章宇軒在接受科技日報記者采訪時說。


              NR9-3000PYNR9 3000PY光刻膠廠家

              光刻膠底膜處理:清洗:清潔干燥,使硅片與光刻膠良好的接觸。這層堅硬的外殼可以采取兩種現有方法去除:方法一,采用濕法刻蝕,但這種工藝容易產生光刻膠殘留。烘干:去除襯底表面的水汽,使其徹底干燥,增粘處理(涂底) 涂上增加光刻膠與硅片表面附著能力的化合物,HMDS,光刻膠疏水,Sio2 空氣中,Si-OH, 表面有,親水性,使用HMDS H2C6Si2NH 涂覆,熏蒸  SI –OH結合形成Si-O-Si(CH2)2,與光刻膠相親。


              NR9-3000PY

              11.請教~有沒有同時可以滿足RIE

              process 和Lift-off

              process的光阻,謝謝!

              A 我們推薦使用Futurrex

              NR1-300PY來滿足以上工藝的需求。

              12.Futurre光刻膠里,有比較容易去除的負光阻嗎?

              A NR9-系列很容易去除,可以滿足去膠需要。

              13.我們目前用干膜做窄板,解析度不夠,希望找到好的替代光阻?

              A NR9-8000因為有很高的AR比例,適合取代,在凸塊的應用上也有很大的好處。

              14.傳統的Color

              filter 制程,每個顏色的烘烤時間要2-3個小時,有沒有更快的方法制作Coior

              filter?

              A 用于Silylation制程------烘烤時間只需要2分鐘,同時光阻不需要Reflow, 顏色也不會老化改變,只需要在Filter上面加熱溶解PR1-2000S光阻,Microlenses就能形成!

              15.請問有專門為平坦化提供材料的公司嗎?

              A 美國Futurrex公司,專門生產應用化學品的,可以為平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是為平坦化用途設計,臺灣企業用的比較多。

              16.我需要一種可用于鋼板印刷的方式來涂布PROTECTIVE

              COATING,那種適合??

              A 推薦美國Futurrex,PC4-10000。

              17.臘是用來固定芯片的,但很難清洗干凈,哪里有可以替代的產品介紹下,謝謝?

              A 我們公司是使用Futurrex

              PC3-6000,可以替代的,而且去除比較容易,你可以試用下。

              18.請問有沒有100微米厚襯底為鍍鎳硅并可用與MEMS應用的光刻膠嗎?

              A NR4-8000P可以做到140微米的厚度,并在鍍鎳的襯底上不會出現難去膠的問題,如果是其他非鍍鎳襯底NR9-8000P是適合的選擇。

              19.誰有用在光波導圖案的光刻膠?是否可以形成角度為30度的側壁?

              A 你必須實現通過逐步透光來實現掩膜圖案棱的印刷,NR4-8000P是專門為光波導圖案應用進行設計的產品。


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