parylene 耐溫誠信企業(yè)「菱威納米」

       真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。Parylene HT（SCS）該材料具有更低的介電常數(shù)(即透波性能好)、好的穩(wěn)固性和防水、防霉、防鹽霧性能.短期耐溫可達(dá)450攝氏度,長期耐溫可達(dá)350攝氏度,并具有強(qiáng)的抗紫外線能力.更適合作為高頻微波器件的防護(hù)材料。

       Parylene真空鍍膜以其良好的耐腐蝕、耐，、 低阻滯性、低摩擦系數(shù)及生物相容性，在國際臨床運用的生物的表面涂層上，將逐步取代TiNi（鎳鈦）合金涂層而被列為*材料。如骨釘、探針、針頭、臨時手術(shù)器械、導(dǎo)尿管、制動器及耳蝸植入器，心臟起搏器、腦電極、植入式傳感器、射頻、血液分析傳感器和高頻手術(shù)刀等微型電子。

       派瑞林涂層是化學(xué)氣相沉積法，是反應(yīng)物質(zhì)在氣態(tài)條件下發(fā)生空間氣相化學(xué)反應(yīng)，在固態(tài)基體表面直接生成固態(tài)物質(zhì)，進(jìn)而在基材表面形成涂層的一種工藝技術(shù)。派瑞林薄膜制備過程分為三步：單體的汽化、裂解、在基材表面進(jìn)行附著沉積。

       紫外線照射的薄膜與未曝光的薄膜之間的故障時間之間的巨大差異為聚對二C和N的正確使用條件提供了重要的認(rèn)識。聚對二D，C，N，AF4的化學(xué)結(jié)構(gòu)定義了由于紫外線引起的降解接觸。聚對二N是未取代的烴分子，聚對二C每個重復(fù)單元具有一個加氯基，聚對二D每個重復(fù)單元具有兩個加氯基。相比之下，聚對二AF4用氟原子取代了化學(xué)品苯環(huán)上的氫原子，從而大大增強(qiáng)了其紫外線穩(wěn)定性。

       納米鍍膜技術(shù)是將納米級的二氧化硅均勻的涂抹在手機(jī)屏面，讓二氧化硅慢慢的滲透并填充屏面凹陷坑洼處，在自然溫度下靜置5-10分鐘等待固化，或者使用專業(yè)的納米鍍膜機(jī)快速固化，形成有9H硬度的保護(hù)涂層。

       同時，早期手機(jī)貼膜的材質(zhì)都是塑料成分，透光率不好，屏面整體可視性差，太陽光下的反光現(xiàn)象傷害視力，越看不清越努力的看更是損傷眼睛的健康；而納米鍍膜的微薄涂層透光率高，呈現(xiàn)效果清晰,還能有效還原屏幕原有的畫質(zhì)色彩，極大提升手機(jī)的品質(zhì)使用感。

       從材質(zhì)的健康角度來說，貼膜的塑料成分中含有苯，苯的有毒性大家共知，長期接觸人體飽受；而納米的屬性是無毒、無味的食品等級，是兒童都可以觸碰的無毒產(chǎn)品，衡量利弊當(dāng)然還是納米鍍膜好。

       原子層沉積（ALD）是一種沉積原子級薄膜的技術(shù)，它是以一種連續(xù)脈沖的方式在樣品表面和反應(yīng)前驅(qū)體材料之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。與傳統(tǒng)的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）技術(shù)相比，沉積速率相對較慢，但是它可在高深寬比的溝槽和通孔結(jié)構(gòu)上沉積均勻薄膜。另外，在原子層沉積過程中，樣品表面上沒有物理和電學(xué)損傷，而在PECVD過程中由于離子轟擊這種損傷卻不可避免。此外，通過使用不同的反應(yīng)材料可沉積各種薄膜（氧化物，氟化物，氮化物，金屬等）。