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發布時間:2021-08-26 06:16  
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PVD鍍膜可以鍍出以下幾種膜層
聚涂層技術是一種環保的表面處理方法,可以真正獲得微米級涂層,無污染。它可以制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等。)、氮化物膜(TiN[鈦]、ZrN[鋯金]、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)和氧化物膜(如TiO)。
PVD鍍膜層的厚度
聚涂層的厚度為微米級,較薄,一般為0.1μm~5μm,其中裝飾涂層的厚度一般為0.1μm~1μm,可以在幾乎不影響工件原有尺寸的情況下提高工件表面的各種物理化學性能,保持工件尺寸基本不變,鍍后無需再加工。

金屬電鍍加工廠電鍍要進行以下這樣的進程:首要金屬真空鍍膜加工廠在盛有電鍍液的鍍槽中,通過整理和特別預處理的待鍍件作為陰極,用鍍覆金屬制成陽極,南北極別離與直流電源的負極和正極聯接。電鍍液由富含鍍覆金屬的化合物、導電的鹽類、緩沖劑、pH調節劑和添加劑等的水溶液組成。通電后,電鍍液中的金屬離子,在電位差的效果下移動到陰極上構成鍍層。陽極的金屬構成金屬離子進入電鍍液,以堅持被鍍覆的金屬離子的濃度。