鍍膜機廠家信賴推薦 至成鍍膜設備

ITO真空鍍膜設備生產特點

1)真空室體資料選用SUS304，真空室內壁進行拋光處理，外壁選用拋光后噴珠處理。

2)真空室之間選用獨立門閥-插板閥隔開，能夠完成有用隔斷，安穩技能氣體。現在咱們至成真空科技選用插板閥規劃，它比現在國內通用的翻板閥密封作用非常好，更經用。

3)傳動選用磁導向，確保傳動的安穩性。整條出產線的各段速度選用變頻調速電機驅動，運轉速度可調理。

4)真空電鍍設備電氣操控體系：觸摸屏與PLC自動操控，人機對話辦法來完成體系的數據顯現、操作與操控

離子真空鍍膜機鍍膜產品表面防腐方法是怎樣的呢？

離子真空鍍膜機鍍膜產品表面大多采用過渡族金屬（如Ti、Zr、Cr）或其合金的氮、碳、氧的化合物，還有用非晶碳（類金剛石）膜的。一般來說，這些化合物本身的化學惰性比較高，耐腐蝕性能很好。但是一些裝飾鍍層產品包括表件、手機殼、高爾夫球頭等，卻未能通過人工汗腐蝕試驗或中性鹽霧腐蝕試驗。裝飾鍍層產品的腐蝕不單是鍍層本身的耐蝕性問題，還包括裝飾鍍層 基體的系統腐蝕問題。許多研究工作都表明離子鍍裝飾鍍層自身耐蝕性好，它鍍在金屬（如不銹鋼）基體上，對基體整體均勻抗腐蝕能力有提高，但裝飾鍍層很薄，不可避免地存在表面缺陷﹐如微裂紋、微孔、孔、柱狀晶界、電弧沉積的宏觀顆粒等。腐蝕介質可通過這些缺陷所形成的通道，穿過鍍層到達基體。

采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層有什么優勢

采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數）、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD膜層能直接鍍在不銹鋼、硬質合金上、鈦合金、陶瓷等表面，對鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進行化學電鍍鉻，然后才適合鍍PVD。PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等）、氮化物膜（TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.1μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm~2μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工。

多弧離子真空鍍膜機鍍膜技術具有以下特點：可以任意安裝使薄膜均勻。外加磁場可以改善電弧放電；使電弧細碎；旋轉速度加快；細化膜層微粒；對帶電粒子產生加速作用。金屬離化率高，有利于薄膜的均勻性和提高附著力，是實現離子鍍膜的良好工藝。一弧多用，既是蒸發源，又是預轟擊凈化源和離化源。