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發布時間:2020-12-19 06:51  
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NR9-3000PYNR27 25000P光刻膠價格
光刻膠底膜處理:清洗:清潔干燥,使硅片與光刻膠良好的接觸。烘干:去除襯底表面的水汽,使其徹底干燥,增粘處理(涂底): 涂上增加光刻膠與硅片表面附著能力的化合物,HMDS,光刻膠疏水,Sio2 空氣中,Si-OH, 表面有,親水性,使用HMDS (H2C)6Si2NH 涂覆,熏蒸 與 SI –OH結合形成Si-O-Si(CH2)2,與光刻膠相親。光刻膠的目標厚度的確定主要考慮膠自身的化學特性以及所要圖形中線條的及間隙的微細程度。
PR1-1500A1NR27 25000P光刻膠價格
6,堅膜
堅膜也叫后烘,是為了去除由于顯影液的浸泡引起膠膜軟化、溶脹現象,能使膠膜附著能力增強,康腐蝕能力提高。
堅膜溫度通常情況高于前烘和曝光后烘烤的溫度 100-140度 10-30min
7,顯影檢驗
光刻膠鉆蝕、圖像尺寸變化、套刻對準不良、光刻膠膜損傷、線條是否齊、陡
小孔、小島。
NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優勢:
- 優異的分辨率性能
- 快速地顯影
- 可以通過調節曝光能量很容易地調節倒梯形側壁的角度
- 耐受溫度100℃
- 室溫儲存保質期長達3 年
NR9-3000PY
11.請教~有沒有同時可以滿足RIE
process 和Lift-off
process的光阻,謝謝!
A 我們推薦使用Futurrex
NR1-300PY來滿足以上工藝的需求。
12.Futurre光刻膠里,有比較容易去除的負光阻嗎?
A NR9-系列很容易去除,可以滿足去膠需要。
13.我們目前用干膜做窄板,解析度不夠,希望找到好的替代光阻?
A NR9-8000因為有很高的AR比例,適合取代,在凸塊的應用上也有很大的好處。
14.傳統的Color
filter 制程,每個顏色的烘烤時間要2-3個小時,有沒有更快的方法制作Coior
filter?
A 用于Silylation制程------烘烤時間只需要2分鐘,同時光阻不需要Reflow, 顏色也不會老化改變,只需要在Filter上面加熱溶解PR1-2000S光阻,Microlenses就能形成!
15.請問有專門為平坦化提供材料的公司嗎?
A 美國Futurrex公司,專門生產應用化學品的,可以為平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是為平坦化用途設計,臺灣企業用的比較多。
16.我需要一種可用于鋼板印刷的方式來涂布PROTECTIVE
COATING,那種適合??
A 推薦美國Futurrex,PC4-10000。
17.臘是用來固定芯片的,但很難清洗干凈,哪里有可以替代的產品介紹下,謝謝?
A 我們公司是使用Futurrex
PC3-6000,可以替代的,而且去除比較容易,你可以試用下。
18.請問有沒有100微米厚襯底為鍍鎳硅并可用與MEMS應用的光刻膠嗎?
A NR4-8000P可以做到140微米的厚度,并在鍍鎳的襯底上不會出現難去膠的問題,如果是其他非鍍鎳襯底NR9-8000P是適合的選擇。
19.誰有用在光波導圖案的光刻膠?是否可以形成角度為30度的側壁?
A 你必須實現通過逐步透光來實現掩膜圖案棱的印刷,NR4-8000P是專門為光波導圖案應用進行設計的產品。

