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              湖北單道掃描ICP光譜儀廠家的行業(yè)須知【鋼研納克】

              發(fā)布時間:2021-01-07 07:00  

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              鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗,數(shù)十項ICP檢測標準的起草單位,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標準GB/T 36244-2018起草單位,懂ICP應用的國產(chǎn)ICP光譜儀制造商。央企品牌,上市公司,品質(zhì)之選!

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              鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

              檢 出 限:亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性:RSD ≤ 0.5%(1mg/L) 長期穩(wěn)定性:RSD ≤ 1.0%(4h,1mg/L)

              光  源

              自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率:27.12MHz

              輸出功率:700W-1600W 功率穩(wěn)定性:< 0.1%

              儀器規(guī)格

              尺寸:寬 x 深 x 高(106cm x 67cm x 75cm) 重  量:約 180kg

              光學系統(tǒng)

              分析譜線范圍:165-950nm

              分  辨  率: 0.007nm@200nm

              光室恒溫:38℃ ±0.1℃

              CCD 像素:1024x 1024

              單像素面積:24μm x 24μm

              工作環(huán)境

              實驗室濕度環(huán)境:相對濕度 20%~80% 氬氣純度:不小于 99.95%

              排  風:不小于 400 立方米 / 小時

              電  源:200V~240V AC 單相;50Hz~60Hz;4kVA




              鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀

              Plasma2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克在首批“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項”支持下研發(fā)的二維全譜高分辨ICP光譜儀,是國產(chǎn)全譜ICP光譜儀革命性產(chǎn)品,曾斬獲中國儀器儀表行業(yè)協(xié)會“自主創(chuàng)新金獎”等一系列榮譽,在業(yè)界獲得廣泛的好評。美觀精致的高顏值工業(yè)設計,優(yōu)異穩(wěn)定的測試性能源于納克近四十年ICP行業(yè)經(jīng)驗。Plasma2000擁有

              1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,徑向觀測,具有穩(wěn)健的檢測能力。

              2、 有效穩(wěn)定的自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的精度較高運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

              3、 高速面陣CCD采集技術,單次曝光獲取全部譜線信息,真正實現(xiàn)“全譜直讀”。

              4、 功能強大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

              可廣泛應用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領域的元素分析。



              鋼研納克檢測技術股份有限公司是專業(yè)的ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè),主營產(chǎn)品有: ICP光譜儀,電感耦合等離子體光譜儀,國產(chǎn)ICP光譜儀,ICP光譜分析儀,全譜ICP,單道掃描ICP光譜儀,ICP-AES,ICP-OES等。源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗,數(shù)十項ICP檢測標準的起草單位,中國ICP光譜儀產(chǎn)品標準GB/T 36244-2018《電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀》起草單位,懂ICP的國產(chǎn)ICP光譜儀制造商。歡迎來電洽談



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