北京AR鍍膜設備報價「至成真空科技」

光學鍍膜材料真空應用領域

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學性能。在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應，這種鍍膜方法不僅薄膜的結合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時還會產生大量的廢液，造成嚴重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。

AF光學鍍膜機

該設備是至成鍍膜機廠家真空針對數碼光電行業視窗鏡片及殼料加工推出的新型真空鍍膜設備，目標對準行業當前對手機屏幕視窗蓋板、鏡頭視窗鏡片、殼體及五金件的真空涂層性能更高要求的解決方案：

性能和產率：提高AF(防指印或稱AS防污染)真空膜層的性能，并通過提高設備產率和穩定性、降低材料消耗來大幅降低成本。

適用性：除手機、平板電腦、車載顯示器等觸控產品外，也適用于在其他數碼產品、電器、衛浴等塑膠和金屬件的裝飾和功能薄膜上加鍍AF、AS涂層，提高光滑度、易清潔性。

光學鍍膜的作用介紹

光學鍍膜由薄膜層組合制作而成，它產生干擾效應來提高光學系統內的透射率或反射性能。光學鍍膜的性能取決于層數、個別層的厚度和不同的層接口折射率。用于精密光學的常見鍍膜類型：增透膜(AR)、高反射（鏡）膜、分光鏡膜和過濾光片膜。增透膜包括在高折射率的光學中并用于化光通量和降低鬼影。高反射膜的設計可在單個波長或范圍廣泛的整個波長以反射。分光鏡膜用于將入射光分為已知的透射光和反射光輸出。濾光片應用于大量的工業應用中，并以特定波長用于透射、反射、吸收或衰減光。愛特蒙特光學還可以提供各種定制鍍膜滿足任何應用程序需要。

光學鍍膜經過精心設計用于特定的入射光角和特定的偏振光，例如S偏振光、P偏振光或隨機偏振光等。如果鍍膜設計的入射光角為0°，但使用時的入射光角為45°，則鍍膜將不會以規定的透射率/反射規格執行。同樣地，鍍膜一般設計用于隨機偏振光，因此在設計用于隨機偏振光的鍍膜上使用S偏振光或P偏振光將會再次產生無效的規格。

光學鍍膜是由沉積電介質和金屬材料制作而成，例如薄層中的Ta2O5和/或Al2O3，在應用中使用的光波長通常是四分之一波長光學厚度(QWOT)或半波光學厚度(HWOT)。這些薄膜由高折射率和低折射率層交替而成，從而誘發需要的干擾效應。請參閱圖1有關寬帶增透膜設計的樣品說明。